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Tystar.TYTAN 实验室用低压化学气相沉积设备
- 型号
- Tystar.TYTAN
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北京朗铭润德光电科技有限公司是一家在半导体微电子、高精密光学镀膜领域，光伏、光热、锂电池等新能源领域以及窗膜、汽车膜、柔性电路板等行业提供专业相关工艺设备的代理公司。
从2006年起与德国著名微电子设备专业厂家FHR公司开始合作，并于2008年成为其中国区的代理机构。通过我们的合作，使 FHR的产品逐渐进入中国，并成为国内镀膜设备的供货商。
我们于 2010 年在北京石景山中关村高科技园区成立了专业代理国外微电子半导体及相关设备的北京朗铭润德光电科技有限公司，并与*技术供货商建立合作关系，为公司全面化运转及操作奠定了良好开端。
我们坚持品味与个性、规范与强大、敬业与专注的理念，以化的视野、以技术和高品位的产品、高尚的商德、高水准的服务取信于用户，取信于市场。凭借良好的现代企业运行机制、“应用是驱动”和“以人为本”的发展理念，造就了一支富有激情、技术过硬的团队，为公司的高速发展打下了坚实的基础。
北京朗铭润德光电科技有限公司在向客户提供产品的同时，更向客户提供服务；为客户着想，与客户共求发展，共创双赢： 朗铭值得您的信赖与期待！
详细信息
LPCVD/常压CVD 实验室用低压化学气相沉积设备详情：
一、关键设计和性能特性包括:
- 创新性热能设计
- 占地空间小
- 优良的工艺均匀性
- 设备开机率优于 95%
- 庞大的客户网络
- 专家服务
- 节省(50%)电能和气体消耗
- 便于保养和服务
二、常压工艺：
- 氧化工艺（湿法，干法）
- 固态源扩散（BN,P2O5）
- 液态源扩散（POCl3,BBr3）
- 退火
- 纳米材料
- 烧结+合金
三、低压化学气相沉积和工艺：
- 掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD
- 多晶硅 LPCVD（使用硅烷或乙硅烷）
- 低温氧化硅，掺杂性低温氧化硅，硼磷硅玻璃，硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD
- 高温氧化硅LPCVD
- TEOS氧化硅LPCVD
- 氮化硅LPCVD（低应力型，标准型）
- 硅锗（Si-Ge）LPCVD
- 掺氧半绝缘多晶硅，碳化硅
- 外延硅
- 纳米材料LPCVD
四、关键设计和性能特点：
- 创新性热能设计
- 占地空间小
- 优良的工艺均匀性
- 设备开机率优于95%
- 庞大的客户网络
- 专家服务
- 节省（50%）电能和气体消耗
- 便于保养和服务
TYTAN炉系统对照表：
| 炉系统型号 | 1600 | 1800 | 3600 | 3800 | 4600 |
| 衬底尺寸 | 6’’ | 8’’ | 6’’ | 8’’ | 6’’ |
| 炉管数量 | 1 TUBE | 1 TUBE | ≤3 TUBES | ≤3 TUBES | ≤4 TUBES |
| 单管产能 | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD |
| 恒温区长度 | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm |
| 设备尺寸 (长度, 高度, 宽度) | L 63’’/1600 mm | L 63’’/1600 mm | L 126’’/3200 mm | L 134’’/3404 mm | L 127’’/3226 mm |
| H 54’’/1372mm | H 54’’/1372mm | H 69’’/1753mm | H 82’’/2083mm | H 82’’/2083mm | |
| D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | |
| *大消耗电功率 | 18 KVA | 28 KVA | 40 KVA | 45 KVA | 50 KVA |
实验室用低压化学气相沉积设备
