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用流延涂覆机在铜箔表面涂硅胶

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2023/1/17 16:42:01

实验设备:MSK-AFA-I流延涂覆机、ZKC-250真空样品贮存器、DZF-6020真空干燥箱




MSK-AFA-I流延涂覆机

ZKC-250真空样品储藏罐

DZF-6020真空干燥箱


图1实验所用设备图

实验材料:液态硅胶、铜箔
实验目的:使用流延涂覆机将液态硅胶均匀涂覆在铜箔表面,用真空干燥箱在90℃的环境下将薄膜烘干,而后使用数显千分尺测量烘干后薄膜的厚度和均匀性。
实验过程:
①原料混合:
首先,将液态硅胶原料按1:1的比例混合好,混合后的液态硅胶内充满气泡,将充满气泡的液态硅胶放入到ZKC-250真空样品贮存器中,对罐体抽真空使液体中的气泡排出,反复抽几次真空,使胶体中所有气泡
全部排出,从而降低气泡对薄膜的影响。
②样品涂膜:
涂布前应开启真空泵将样品固定在真空吸盘上,然后调节刮刀顶端的机械千分尺,设置薄膜的涂覆厚度,本实验液态薄膜的涂覆厚度设置为50μm。将脱泡后的液态硅胶用胶管吸出,挤入涂布机的刮刀内,设置涂布行程和涂布速度,然后开启涂布机对铜箔进行涂膜,挤入硅胶和涂膜后的试样如图所示:




挤入硅胶的试样图

涂膜后的试样图


图2 挤入硅胶和涂膜后的试样图

③薄膜烘干测厚:
首先在制备薄膜前将烘箱温度设置为90℃,开启烘干箱,使温度加热至90℃待用,而后将涂覆后的薄膜平移(以防铜箔出现褶皱)至DZF-6020烘干箱中进行烘干,烘干时间设置为1小时。烘干后取出带有薄膜的铜箔,然后将薄膜从铜箔上撕下,待薄膜变形恢复后使用数显千分尺对薄膜厚度进行测量,测量结果如图3所示,不同位置的薄膜厚度绝大部分为0.112㎜、0.111㎜、0.112㎜。



取下的薄膜样品厚度图1

取下的薄膜样品厚度图2



取下的薄膜样品厚度图3

取下后的薄膜样品图

图3 从铜箔上取下的薄膜图

实验结论:通过对烘干后的薄膜进行厚度测试可知,整张薄膜绝大多数区域的厚度在0.111㎜-0.112㎜范伟内,可见使用AFA-I刮膜机所涂覆的液态硅胶薄膜厚度均匀,液态硅胶薄膜可使用刮膜机进行薄膜制备。
设备优势:
1、MSK-AFA-I自动涂布机广泛用于各种平板涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。该机采用真空吸附方法来对基片进行固定,使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生,从而使得涂布更加均匀顺畅。制膜宽度可通过更换不通的制膜器进行改变,制膜厚度可通过制膜器进行调节。制膜长度通过控制刮刀的行程来控制,刮刀的行程可在10-290mm的范围内进行调节。设备体积小巧,适合在实验室中使用。
2、ZKC-250真空样品贮存器可以贮存各种样品,如生化试剂、药品、光学镜头、种子、精密元器件、文物等,防止其氧化、变质。对不宜真空保存的物体,通过变更进、出气口,可以充入各种惰性保护气体,以达到防止氧化、变质的作用。本机也可以用来对物体进行真空干燥,且快速、安全有效。
3、DZF-6020真空干燥箱(真空烘箱)专为干燥热敏性,易分解和易氧化物质而设计,能够向内部冲入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥,也可用于普通环境下对一些材料进行干燥。


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