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EP3 nanofilm呈像椭偏仪
- 型号
- EP3
该企业相似产品
公司产品主要有：X射线衍射系统；多功能稳定度分析仪 ；奈米颗粒大小分析仪；光电制造和检测系统；粘度分析系统；粒度及微流变分析系统；数字全析显微镜；呈象椭偏仪，布氏角显微镜，LB 薄膜分析；接触角及表面张力分析仪；沾笔式纳米制程技术；在线粘度计；原子薄膜沉积仪。
源顺有限公司
源顺有限公司是一家专门从事纳米科技，材料分析，光电产品检测及生产设备销售和技术咨询的高科技公司。我们*代理具有*水平的分析仪器，产品涵盖了微观结构观察，物理性能，力学性能及电磁学性能。
Total Solution ，为客户提供整体解决方案，是源顺公司一贯坚持的宗旨。 这个宗旨象征*、品质与客户服务，并将在新的世纪中，全面提升服务品质以伴随您的阔步发展。
源顺公司秉持企业文化：『诚信』、『品质』、『服务』、『团队』、『创新』，本着其宗旨『Total Solution』，继续将*的技术，以Z佳的成本效益，提供客户*质的精密分析仪器和生产设备，并坚持Z*的服务。
公司产品主要有：
LUM公司: 多功能的颗粒状态与稳定度分析仪
Qudix公司: 奈米 & 微米颗粒大小分析仪。
Scinco公司: 可见光及紫外光光度计(UV-Vis Spectrophotometer), Colormate。
SOFRASER公司: 在线粘度计。
ProRheo公司: 高阶粘度计。
Rame-hart公司: 接触角及表面张力分析仪。
AET 公司: 微波诱电分析仪
NANOFILM公司: 呈象椭偏仪，布氏角显微镜，LB 薄膜分析。
UNIOPT公司: 双折射分析仪。
NonoInk: Dip Pen Nanolithography (DPN) 沾笔式纳米制程技术。
ANASYS 公司: Nano-Thermal Analysis。
PNI公司: 原力显微镜(AFM)
Capres公司: MRAM,写磁头的MTJ 磁阻和隧阻&材料表面 Nano微区范围的阻抗分析.
LYNCEETEC公司: DHM (数字全析显微镜)
BEDE公司: 高分辨X射线衍射仪。
OMI公司: Solstice (晶圆或外延片的能阶Bandgap分析，Strained Silicon 分析)。
Equinox (IC or MEMS封装应变,3D热机械变形及CTE分析)。
Pascal公司: 脉冲雷射溅镀MBE(PLD MBE) – ZnO, GaN, etc.。
Cambridge Nano Tech: 原子薄膜沉积仪 (ALD).
EpiQuest公司: 研发型 MOCVD，MBE，VCSEL 氧化系统。
源顺公司总部设在香港，在上海和北京设立了分公司，深圳和成都设立了办事处，并有强大的技术和维修队伍，为客户提供Z高水平的产品和服务。
源顺有限公司是一家专门从事纳米科技，材料分析，光电产品检测及生产设备销售和技术咨询的高科技公司。我们*代理具有*水平的分析仪器，产品涵盖了微观结构观察，物理性能，力学性能及电磁学性能。
Total Solution ，为客户提供整体解决方案，是源顺公司一贯坚持的宗旨。 这个宗旨象征*、品质与客户服务，并将在新的世纪中，全面提升服务品质以伴随您的阔步发展。
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公司产品主要有：
LUM公司: 多功能的颗粒状态与稳定度分析仪
Qudix公司: 奈米 & 微米颗粒大小分析仪。
Scinco公司: 可见光及紫外光光度计(UV-Vis Spectrophotometer), Colormate。
SOFRASER公司: 在线粘度计。
ProRheo公司: 高阶粘度计。
Rame-hart公司: 接触角及表面张力分析仪。
AET 公司: 微波诱电分析仪
NANOFILM公司: 呈象椭偏仪，布氏角显微镜，LB 薄膜分析。
UNIOPT公司: 双折射分析仪。
NonoInk: Dip Pen Nanolithography (DPN) 沾笔式纳米制程技术。
ANASYS 公司: Nano-Thermal Analysis。
PNI公司: 原力显微镜(AFM)
Capres公司: MRAM,写磁头的MTJ 磁阻和隧阻&材料表面 Nano微区范围的阻抗分析.
LYNCEETEC公司: DHM (数字全析显微镜)
BEDE公司: 高分辨X射线衍射仪。
OMI公司: Solstice (晶圆或外延片的能阶Bandgap分析，Strained Silicon 分析)。
Equinox (IC or MEMS封装应变,3D热机械变形及CTE分析)。
Pascal公司: 脉冲雷射溅镀MBE(PLD MBE) – ZnO, GaN, etc.。
Cambridge Nano Tech: 原子薄膜沉积仪 (ALD).
EpiQuest公司: 研发型 MOCVD，MBE，VCSEL 氧化系统。
源顺公司总部设在香港，在上海和北京设立了分公司，深圳和成都设立了办事处，并有强大的技术和维修队伍，为客户提供Z高水平的产品和服务。
详细信息
[EP3] 德国nanofilm公司于1991年开发出了世界上*台Brewster角显微镜(BAM)，该仪器主要用于薄层膜的观察。近几年来，nanofilm又相继推出了不同用途的BAM产品以及相应的配套仪器，其款的EP3椭圆偏振成相系统把椭圆偏振法与显微镜法相结合，为其进入到生物分析和微电子等新的研究领域提供了可能。 应用领域： 椭圆光度法是一种非破坏性和无需标记的、用于确定膜厚和材料光学特性的方法。通过把椭圆光度法与显微镜法相结合，影像椭圆光度仪不断改进，平面精度已经能够达到1μm，立体精度已提高到1nm，为其进入到生物分析和微电子等新的研究区域提供了可能。EP3是德国nanofilm公司zui近推出的新一代椭圆光度仪产品。主要应用于以下各种*领域： 生物芯片：同次性、膜厚、杂交、动力学等测量 LB/单层/自组合单层膜/活性剂：检测LB膜的结构、单层膜厚度、界面吸附等 接触印刷：小于1μm微结构的质量控制、膜厚测量、测量折射率和吸附 磁盘：同次性、膜硬度 (油)膜厚度、光学产品磁光学结果的观察 纳米粒子：纳米粒子上的一小块区域、折射率和吸附的分布 聚合物：膜厚、折射率和吸附测量 主要特点 采用高精度回零椭圆光度法 出色的空间分辨率(1μm), 大面积图像椭圆光度法（多达若干cm2） 单一或多重的激光波长 新颖的自动测角计，用于入射角调整n EP3View软件，用于仪器控制和基于Windows?的数据分析 多重关注区域及Δ，Ψ绘图n 可通过局部网络实现远程控制和服务 技术参数 原理 PCSA 配置的自动回零（ Auto-Nulling ）图像椭圆光度法 椭圆光度分辨率 Delta/Psi 精度 0.001 deg 精度 0.01 deg （依赖于样品与测量条件） 立体分辨率 1~35μm （平面解析精度： 1μm ，纵向解析精度： 1 nm ） 激光器波长 标准为 : 532 nm 可选 405, 488, 514, 543, 594, 633, 650, 690, 785, 830, 905, nm 灵敏度 0.05~0.2nm 解析时间 快， 22×73mm 在 1.2μm 精度下只需不到一分钟的时间 图像系统 768 x 572 像素 CCD 照相机 电子组件 内置基于 Pentium 芯片的控制器，带 Matrox Meteor II 抓图器； 内置 Linux 操作系统；通过 100M 以太网与主机相连 电源 电压： 100 – 240 VAC, 50/60Hz zui大电流 : 10 A
