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OTF-1200X-4-RTP-C3HV 高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV
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生产厂家沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供Z为实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。
沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客参观户百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。
沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。
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产品型号 | 高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV |
主要特点 | 1、双层Al2O3纤维钢构,无需水冷或风冷。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、PID控制器 ,可以设置30段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。 4、已通过CE认证。 |
技术参数 | 1、电源:单相208-240V AC 50/60Hz 10KW 2、石英管:外径Φ110mm,内径Φ103mm,长380mm 3、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Φ10mm,灯长300mm 4、加热区:300mm 5、工作温度:zui高温度1100℃ 6、控温精度:±0.5℃ 7、zui高升温速度:RT-800℃时为50℃/s,800℃-1000℃时为10℃/s 8、温控仪:可控硅(SCR)PID自动控制 9、真空法兰:不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温O型圈密封,长时间在>900℃条件下运行必须采用水 冷,循环水流量为0.5m3/hr 10、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵) 11、质量流量计:3个,MFC1范围0-100sccm,MFC2范围0-200sccm,MFC3范围0-500sccm,精度1±%FS 12、混气罐:Φ80mm×120mm |
产品规格 | 尺寸:炉体760mm×330mm×530mm,真空混气系统600mm×600mm×597mm 重量:炉体45kg,真空混气系统75kg |