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PhableR 100 紫外光刻机

型号
PhableR 100
北京汇德信科技有限公司

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分子束外延系统,脉冲激光沉积系统,电子束光刻/聚焦离子束系统,紫外光刻机,去胶机,宽频介电阻抗谱仪,三维表面形貌仪,纳米压印模板,光刻胶等

  自1999年成立以来,北京汇德信科技有限公司始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨,将上*的纳米科学技术设备引进到国内。我们与德国亚琛工业大学、德国明斯特大学、德国斯图加特大学、德国卡尔斯鲁尔纳米中心及德国Max-Planck研究所等科研院所有着紧密的合作,并系统地代理了德国Raith(电子束光刻系统)、Novocontrol(宽频介电阻抗谱仪)、荷兰TSST(脉冲激光沉积系统)等多家*产品。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域。产品已经被国内众多科研院所和大学使用,并得到用户*好评和认可。

 

  作为几十家的国内*代理,汇德信已建立起以客户为中心,为客户解决科研需求的销售团队和专业的技术支持队伍。公司不定期地组织技术人员出国培训,提升技术水平,更好地为客户提供技术解决方案。

 

  我们经过多年的技术积累,并与国内用户、国外厂商紧密合作,共同研发具有独立知识产权的高科技含量的科研仪器。从“代理”产品走向 “研发”产品,迈出了具有重大意义的一步。2014年我们在常州建立了常州雷欧仪器有限公司,致力于开发研制符合国内用户需求的高品质、高性价比的薄膜沉积设备。

 

  我们本着将上*的科技和企业引进到国内的理念,在德国对华经济技术合作中心(IWC)、江苏省政府、德国北威州共同努力下,在江苏省常州市创建了江苏中德创新中心有限公司,中心凭借*理念和掌握大量的德国*和企业资源,重点抓住“中德合作”和“创新”这两个主轴,确保实现:知识转化为技术;实验室走向市场;技术变为产品;科技人才成为创业者。

详细信息

瑞士Eulitha紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

特点:

 

  • 可达到步进光刻机的高分辨率
  • 操作简单性与紫外曝光机相同
  • 光子图形化的低成本解决方案

 

优势

 

  • 高分辨率(低于300nm pitch)
  • 全场曝光
  • 非接触式:防止掩膜受损及被污染
  • 焦深几乎没有限制
  • 表面不平的衬底也适用(如外延片)
  • 均匀性高
  • 具有套刻对准能力
  • 商业化的可获得的光刻胶和材料都适用
  • 使用传统的掩膜板(玻璃上镀铬)
  • 频率倍增

 

PhableR 100革新性紫外光刻机

 

PhableR 100 应用:

 

  • LED光萃取层
  • 蓝宝石衬底图形化(PSS)
  • 磁性纳米结构
  • 减反射图形
  • 太阳能光伏
  • 电通讯光栅
  • 光谱仪光栅
  • 等离子图案
  • 编码器标尺
  • 滤色镜
  • 生物传感器

 

更多瑞士Eulitha介绍,请查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=476

 

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