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PLD 脉冲激光沉积系统

型号
PLD
北京汇德信科技有限公司

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分子束外延系统,脉冲激光沉积系统,电子束光刻/聚焦离子束系统,紫外光刻机,去胶机,宽频介电阻抗谱仪,三维表面形貌仪,纳米压印模板,光刻胶等

  自1999年成立以来,北京汇德信科技有限公司始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨,将上*的纳米科学技术设备引进到国内。我们与德国亚琛工业大学、德国明斯特大学、德国斯图加特大学、德国卡尔斯鲁尔纳米中心及德国Max-Planck研究所等科研院所有着紧密的合作,并系统地代理了德国Raith(电子束光刻系统)、Novocontrol(宽频介电阻抗谱仪)、荷兰TSST(脉冲激光沉积系统)等多家*产品。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域。产品已经被国内众多科研院所和大学使用,并得到用户*好评和认可。

 

  作为几十家的国内*代理,汇德信已建立起以客户为中心,为客户解决科研需求的销售团队和专业的技术支持队伍。公司不定期地组织技术人员出国培训,提升技术水平,更好地为客户提供技术解决方案。

 

  我们经过多年的技术积累,并与国内用户、国外厂商紧密合作,共同研发具有独立知识产权的高科技含量的科研仪器。从“代理”产品走向 “研发”产品,迈出了具有重大意义的一步。2014年我们在常州建立了常州雷欧仪器有限公司,致力于开发研制符合国内用户需求的高品质、高性价比的薄膜沉积设备。

 

  我们本着将上*的科技和企业引进到国内的理念,在德国对华经济技术合作中心(IWC)、江苏省政府、德国北威州共同努力下,在江苏省常州市创建了江苏中德创新中心有限公司,中心凭借*理念和掌握大量的德国*和企业资源,重点抓住“中德合作”和“创新”这两个主轴,确保实现:知识转化为技术;实验室走向市场;技术变为产品;科技人才成为创业者。

详细信息

脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。

 

脉冲激光沉积系统 (PLD)

脉冲激光沉积系统(PLD)

 

TSST配置:

 

  • 生长室,进样室可选
  • 两种靶材台可选
  • 三种加热器可选,zui高加热温度1200℃
  • 高压RHEED,工作气压可达100Pa
  • 可预留法兰,用于LEED,K-Cell等
  • 可选项:臭氧发生器,离子源,掩膜系统等

 

TSST特点及优势:

 

  • 产品基于荷兰Twente大学Prof. Blank和Dr. Rijnders研究组的原始设计,在提供产品的同时,更能提供专业的;
  • 始终考虑到客户的需求,为其定制产品,具有很大的灵活性;
  • 靶材台同时可以安装5个靶,并且5个靶可以同时更换,节省换靶时间;
  • TSST公司是高压RHEED的发明人,其在RHEED结果的分析上造诣很深,可以为用户提供结果分析建议;
  • 用户可以通过TSST公司与荷兰Twente大学进行学术交流,包括访问甚至交换学生等。

 

更多信息,请查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=392

 

 

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