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LMBE 激光分子束外延系统

型号
LMBE
北京汇德信科技有限公司

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分子束外延系统,脉冲激光沉积系统,电子束光刻/聚焦离子束系统,紫外光刻机,去胶机,宽频介电阻抗谱仪,三维表面形貌仪,纳米压印模板,光刻胶等

  自1999年成立以来,北京汇德信科技有限公司始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨,将上*的纳米科学技术设备引进到国内。我们与德国亚琛工业大学、德国明斯特大学、德国斯图加特大学、德国卡尔斯鲁尔纳米中心及德国Max-Planck研究所等科研院所有着紧密的合作,并系统地代理了德国Raith(电子束光刻系统)、Novocontrol(宽频介电阻抗谱仪)、荷兰TSST(脉冲激光沉积系统)等多家*产品。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域。产品已经被国内众多科研院所和大学使用,并得到用户*好评和认可。

 

  作为几十家的国内*代理,汇德信已建立起以客户为中心,为客户解决科研需求的销售团队和专业的技术支持队伍。公司不定期地组织技术人员出国培训,提升技术水平,更好地为客户提供技术解决方案。

 

  我们经过多年的技术积累,并与国内用户、国外厂商紧密合作,共同研发具有独立知识产权的高科技含量的科研仪器。从“代理”产品走向 “研发”产品,迈出了具有重大意义的一步。2014年我们在常州建立了常州雷欧仪器有限公司,致力于开发研制符合国内用户需求的高品质、高性价比的薄膜沉积设备。

 

  我们本着将上*的科技和企业引进到国内的理念,在德国对华经济技术合作中心(IWC)、江苏省政府、德国北威州共同努力下,在江苏省常州市创建了江苏中德创新中心有限公司,中心凭借*理念和掌握大量的德国*和企业资源,重点抓住“中德合作”和“创新”这两个主轴,确保实现:知识转化为技术;实验室走向市场;技术变为产品;科技人才成为创业者。

详细信息

激光分子束外延系统(LMBE)是在传统的分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积系统(PLD)的基础上发展而来的,PLD与提供原位监测的反射高能电子衍射仪(RHEED)相结合,使得系统能够实现类似于MBE的,单原子层精度的薄膜生长。相比于MBE的热蒸发,它是使用脉冲激光的高能量使材料蒸发甚至电离,因此被称作Laser MBE(激光分子束外延系统)。LMBE属于薄膜制备设备,适用于生长各种纳米尺度的单层膜或多层膜。

(LMBE)

(LMBE)

 

荷兰TSST(Twente Solid State Technology BV)公司生产的LMBE产品,基于荷兰Twente 大学的原始设计,并且能够满足不同客户的需求,具有很大的灵活性。公司自成立以来,一直致力于PLD/LMBE系统的研发与生产,客户通过使用我们的产品,取得了丰硕的科研成果。

 

产品特点及优势:

  • 超高真空沉积腔体,本底真空优于10-9mbar。
  • 可集成多种薄膜制备和表面分析设备,如磁控溅射源、离子源、STM、XPS等。
  • 可以通过软件编写工艺流程,系统自动执行,可实现多层膜的自动化生长。
  • 提供原位监测的RHEED的电子枪通常需要工作在较高的真空环境下(小于10-6mbar),但LMBE系统在成膜过程中往往需要较高的工艺压力,我们的LMBE采用的是STAIB公司生产的差分抽气RHEED,系统的zui高工作气压可达100Pa。
  • 为了减小在使用RHEED时,磁场对电子束的影响,我们的LMBE系统能稳定加热电流,同时使用抗磁场金属外壳来保护电子枪。
  • TSST公司是高压RHEED的发明人,其在RHEED结果的分析上造诣很深,可以为用户提供结果分析建议。

 

RHEED振荡曲线

RHEED振荡曲线

 

更多信息,请查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=450

 

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