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L2002A2 OS紫外臭氧清洗机
- 型号
- L2002A2
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半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。
详细信息
应用工艺：
•改善表面亲水性
•表面清洗
•准备薄膜沉积
•表面处理
•紫外固化
•表面灭菌消毒
•去除表面单分子膜
•表面氧化
•清洗AFM / STM探针
•清洗光学元件
可清洗的基材示例：
•石英
•硅
•氧化硅
•氮化硅
•金
•镍
•铝
•砷化镓
•矾土
•玻璃
•不锈钢
可去除的污染物示例：
•光刻胶
•树脂
•人体皮肤油脂
•清洗溶剂的残留物
•塑料/硅片表面油渍
•助焊剂
产品特点：
•成本低；
•120x120mm样品台；
•Z大处理样品高度为14mm；
•抽屉式样品台，简单方便；
•样品台自安全联锁，防止对人身伤害；
•LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；
•60分钟计时器；
•高强度紫外线灯源；
•可控温的样品台；
•样品清洗无需溶剂；
•超净表面。
下图显示了UV臭氧处理对基材的影响，以改善表面亲水性。
水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上，经过紫外臭氧清洗处理前（左图）和处理后（右图）的效果对比。
