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首页>实验室常用设备>恒温/加热/干燥>恒温加热板

HP系列 高精度热板/烘台

型号
HP系列

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等离子清洗机,均胶机,薄膜沉积,刻蚀

First-Nano System GmbH 

  • 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

  • 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统(深圳)有限公司,更好的为中国南方区市场

     

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!

 

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

详细信息

高精度热板/烘台 HR系统   高精度热板/烘台 HR系统     高精度热板/烘台 HR系统

高精度热板/烘台     高精度热板/烘台 HR系统       高精度热板/烘台 HR系统

实验室生产用精密热板;

可真空吸附固定,需要真空泵配置;

从室温升温高达250°C或350°C(取决于模型);

可选:带盖  ;          

可选:与PC机的USB接口和编程编辑     ;       

可选:带升降销  ;

高精度热板/烘台       高精度热板/烘台           高精度热板/烘台

实验室生产用精密热板;

可真空吸附固定,需要真空泵配置;

从室温升温高达250°C或350°C(取决于模型);

可选:带盖  ;          

可选:与PC机的USB接口和编程编辑   ;         

可选:带升降销  ;

 

 

 

 

 

 

      

 

    

 

 

 

 

 

 

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