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SAL1000G 原子层沉积系统
- 型号
- SAL1000G
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详细信息
SAL1000G原子层沉积系统特点：
- 多样性 -
· 真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。
· 前驱体标配两组阀门和气瓶。
· 可选择将前驱体加热至200摄氏度。
· 可选择基片自动旋转支架。
· 可选择粉体沉积配件。
· 可选择经济实惠的废气处理设备。
- 表现 -
· 保证基片表面上的每个均匀原子层针孔自由层沉积。
· 通过阶梯覆盖沉积在不均匀或3D形状的表面。
· 与CVD和PVD相比，可以获得更好的沉积，特别是对于具有更高纵横比和多孔沉积材料。
- 操作界面友好 -
· 触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程，并检查每个驱动系统的运动。
· 可进行自动沉积，并在沉积完成后自动完成N2排放。
· 手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。
- 安全性 -
· 这是具有各种互锁功能的高级设备。
- 具有轻柔关闭功能的顶部舱口使用户可以轻松地装载和卸载基片。
SAL1000G原子层沉积系统技术参数：
性能 | |||
真空度 | 到达压力 | ≤5Pa | |
成膜性能 | 膜厚分布 | ≤± 3% （φ 100mm） | |
设备构成 | |||
设备型号 | SAL1000G | ||
成膜方向 | 下表面 | ||
基底尺寸 | φ 100mm or 4 inch Max | ||
基底加热器温度 | 350℃ Max | ||
前驱体数 | 2 | ||
前驱体温度 | 150℃ Max | ||
净化气体 | N2 （气体控制：带流量计针型阀） | ||
手套箱 | 有机玻璃，真空-氮气吹扫式 | ||
真空泵 | 162L/min 旋片式真空机械泵 | ||
重量 | 本体：50kg，手套箱：35kg，真空泵：27kg | ||
可选配置 | 基片自动旋转支架 粉体沉积配件 废气处理设备 前驱体加热器- 200℃ | ||
安装要求 | |||
电源要求 | 电源 | 3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz | |
接地 | ＜100Ω | ||
线缆 | 5m 附赠 | ||
N2吹扫气体 | 供给压力 | 0.1 ~.0.2Mpa | |
接口 | 1/4 Swagelok | ||
压缩空气 | 供给压力 | 0.6 ~0.8Mpa | |
接口 | φ6mm 接口 | ||
真空泵排气口 | 排气口 | KF-25法兰 | |
设备排气口 | 排气口 | φ38mm x L28软管适配器 | |
安装尺寸 | W1000 x D700 x H900 | ||
