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Compact ALD 台式原子层沉积镀膜系统
- 型号
- Compact ALD
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科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供*的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。
详细信息
该台式原子层沉积镀膜系统ALD拥有达到或超过市场上其他品牌的功能，同时易于使用和维护 - 成本低于当今市场上的价格
腔室温度：室温到325°C±1°C;
前躯体温度从室温到 150 °C ± 2 °C（带加热夹套）
市场上最小的占地面积（2.5 平方英尺），台式 安装和洁净室兼容
简单的系统维护和实用程序和 市场上的前体使用
流线型腔室设计和小腔室体积
快速循环能力
全硬件和软硬件联锁，即使操作安全 在多用户环境中
台式原子层沉积镀膜系统用于电子显微镜的样品通常受益于薄膜的添加。它通常是导电材料，例如Pt，Pd或Au。这些导电层有助于抑制电荷，减少局部光束加热引起的热损伤，并改善二次电子信号。
传统上，这些薄膜是使用PVD技术生长的。随着技术的进步，某些类型的样品不能通过PVD提供，因为需要涂层的特征无法进入现场生长线。
研究人员将受益于ALD生长的导电薄膜，因为已经开发出针对小样品导电金属生长进行了优化的系统（与台式溅射的价格点相同）
为保形导电薄膜提供了用于 3D 样品制备的解决方案，同时还提供目前使用溅射/蒸发生长的传统 2D 镀膜。我们不仅突破了界限，而且是当前样品制备过程的有效替代品，所有这些都在台式配置中，价格相当。
热ALD / PEALD
沉积工艺：
金属：Ru、Ti、Co、…
氧化物：Al2O3、HfO2、TiO2、SnO2、NiOx、ZnO、ZrO、SiO2、RuO、，。。。
氮化物：TiN、TaN等，。。
基板尺寸：工件最大为6英寸
源注入：双型喷头
基板加热器温度：RT至最高350℃（@晶片）
前躯体化学源数量：3套
源瓶加热：RT至150℃
射频功率：600W@13.56Mhz
极限压力：≤5.0×10-3乇
泵：干式泵或旋转泵
沉积均匀度：≤±3%
系统控制：PC控制（UPRO软件）
可选 源瓶加热温度200℃
尺寸（宽*长*高）850mm*720mm*600mm
