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PICOSUN R-200 标准型ALD系统
- 型号
- PICOSUN R-200
北京盈思拓科技(Instonetech) 有限公司是材料研究领域的技术服务提供商。 Instone是Institute、Instrument、Instant的缩写，代表公司秉承专业、高效的经营理念，为科研用户提供技术服务。
公司深耕国内科研市场近十年，以中科院等专业院所背景的技术力量为依托， 为国内各大科研机构及材料研究客户提供科研仪器设备和专业技术服务。公司以代理国内外材料化工方向的仪器设备为核心业务，产品覆盖材料制备、表征、光、热、 电、磁等研究领域。
公司在提供专业仪器设备的基础上，根据客户的不同需求，提供“从0到1”的咨询和建设服务(实验室设备及家具布局、通风、洁净及气路等),为新能源电池、电子陶 瓷、半导体材料、高分子材料等用户提供一站式解决方案。
此外，公司旗下拥有友研精密加工平台，并拥有专业的技术工程师为实验设备提供 系统集成服务，提升科研实验的自动化水平，为用户提供增值服务。
详细信息
PICOSUN R-200 标准型ALD系统PICOSUN®R-200 标准 ALD 系统适用于数十种应用的研发，例如IC 组件、MEMS器件、显示器、LED、激光和 3D 对象，例如透镜、光学器件、珠宝、硬币和医疗植入物。它是ALD研究工具的市场。它已成为创新驱动的公司和研究机构的工具。
敏捷的设计实现了质量的ALD薄膜沉积以及系统的最终灵活性，可以满足未来的需求和应用。的热壁设计、独立的前驱体管路和特殊的载气设计，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆、3D 对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于专有的 Picoflow™技术，即使在挑战性的多孔，超高长宽比和纳米颗粒表面样品上也可以实现出色的均匀性。
系统配备了功能强大且易于更换的液态、气态和固态化学物质前体源，与手套箱、粉末室和各种原位分析系统集成。无论您现在的研究领域是什么，或以后可能成为什么样的研究领域，都可以进行高效、灵活的研究，并获得良好的结果。
PICOSUN R-200 标准型ALD系统设备特点：
标准基板尺寸与类型
50 mm-200 mm 单晶片
156 mm x156 mm 太阳能硅晶片
多孔、通孔和高纵横比(高达 1:2500)
工艺温度：50℃-500℃
基板装载：使用气动升降机手动装载
前驱体：液体、固体、气体、臭氧，多达 6个源、带 4个独立入口。
