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Pluto-MD等离子去胶机
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武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发，以力学试验机仪器为主，同时销售各种、中低端分析仪器。现有员工60多人，公司成功开发了PCI放大采集卡和中文版试验软件，并采用全数字化，操作简捷，*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等标准、国家标准、行业标准的要求，公司亦通过了ISO9001质量体系认证和国家计量体系认证，荣获了“武汉市第九界消费者满意单位”的称号。
产品广泛应用于电子、高校、政府研究机构、环保机构、石油化工、纺织制造、第三方检测机构、*别研究院、新能源、集成电路、芯片、封装测试、半导体行业、显示器领域、光电材料、锂电池、机械生产等领域。并与武汉理工大学、华中科技大学等建立了长期合作，每年投入大量研究经费，招揽各方优秀的技术人才加盟突破国内技术壁垒，不断攻克新的技术难题，另外公司还积极拓展海外业务，产品远销越南，印度，埃及等国家和地区。
本着“专业品质，专业服务”为宗旨，以“科技、品质、竞争、创新”为理念，通过不断汲取新的技术，新的理念，继续开发研制新产品，并为广大客户提供优质的售前，售中，售后服务。热烈欢迎广大新老朋友业函，来电，莅临我公司参观指导！
详细信息
Pluto-MD等离子去胶机
产品介绍 ：
去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精细控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
产品性能：
经过真空检漏316不锈钢腔体， 具备更好密封性能和保压能力
5L腔体，双层电极，离子密度可控
13.5EMHz射频等离子源，兼容物理反应和化学反应，覆盖全部样品种类
创新可调电极，可以调整有效处理面积中等离子体的能量密度
标配两路气体，适应更多用户需求。
Pluto-MD等离子去胶机采用电容触摸屏，全数字控制。
全手动控制和预设工艺参数自动运行
Pluto-MD等离子去胶机 产品参数：
