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EVG 7200 纳米压印 EVG7200 自动化SmartNIL UV纳米压印光刻
- 型号
- EVG 7200 纳米压印
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公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务；目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队，专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装（TSV、Fan-out等）、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备，还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案。
目前亚科电子已与众多微电子封装和半导体制造设备企业建立了良好的合作关系（如：BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等），为向客户提供先进的设备和专业的技术服务打下了坚实基础。
详细信息
EVG®7200 Automated SmartNIL® UV Nanoimprint Lithography S
EVG®7200 自动化SmartNIL®UV纳米压印光刻系统
具有EVG专有的SmartNIL®技术的自动全场UV纳米压印解决方案（大200毫米）
技术数据
EVG7200系统利用EVG的创新SmartNIL技术和EVG的材料专长来实现微米级和纳米级结构的批量生产。该系统将SmartNIL的高级软印和压印功能带到了更大的基板和更小的几何形状上，批量生产时的分辨率低至40 nm *。这带来了更大的拥有成本（CoO）收益，并实现了纳米压印光刻技术的全部制造潜力。
*分辨率取决于过程和模板
特征
体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度
专有的SmartNIL®技术和多次使用的聚合物印模技术
集成式压印，UV固化，脱模和工作印模制作
盒带到盒带自动处理以及半自动R＆D模式
可选的顶部对齐
可选的迷你环境
适用于所有市售压印材料的开放平台
从研发到生产的可扩展性
系统外壳，可实现佳过程稳定性和可靠性
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）75至200毫米；
解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：SmartNIL®
曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm²
对准：可选的顶部对齐
自动分离：支持的
迷你环境和气候控制：可选的
工作印章制作：支持的
