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等离子体化学气相沉积设备
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详细信息
等离子体化学气相沉积设备
产品特点：
等离子源采用频率为13.56MHz射频发生器，同时具备物理清洗和化学清洗能力。
电源功率为200W，覆盖常规处理需求
创新设计，可调整电极之间距离，调整等离子体浓度和强度，大提升处理效率和能力
真空腔体和管道连接件均采用316不锈钢，电极6061航空铝合金，配件材质精良，保证设备稳定高效运行
样品处理面积可达125mm（大处理面积可达200mm，如有需求请咨询销售人员）
4.3寸工业级触摸屏，操作简单，可设置多种实验参数
性能稳定可靠，质量稳定，自主研发，售后有保障
等离子体化学气相沉积设备
产品参数:
1. 真空腔规格: 316不锈钢腔体,直径210mm*(深)230mm 约4L
2. 电极：两个自适应平板电极，材质T6061铝合金
3. 电极尺寸：120*135mm 间距20~75mm 可调
4. 等离子体发生器：RF射频发生器，频率：13.56MHz
5. 功率：0-200W连续可调，精度1W
6. 气体控制：针式气体流量阀，标配1路气体
7. 控制方式：4.3寸工业控制触摸屏
控制软件功能：界面显示实时工作状态，
可显示设置值与实际值，便于实时控制。
可自由设置等离子功率，通入气体时间
全手动控制和全自动控制可选
8. 保护装置：一键急停保护按钮
等离子体表面处理系统Pluto-M参数(标准配置) | |||
外部尺寸 | 404*640*515mm |
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真空腔尺寸 | 直径210mm*230mm | 不锈钢腔体 | |
电极尺寸 | 125*125mm | 多空自适应平板电极 | |
等离子体发生器 | RF射频发生器，频率：13.56MHz | 自适应阻抗匹配电源 | |
功率 | 0-200W连续可调 | 精度1W | |
真空计 | 热电偶真空计 0-1000mT |
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供气 | 1路气体 | 6mm国标连接件（软管） | |
控制方式 | 4.3寸触摸屏 |
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可 选 配 置 | |||
ALC | 纯铝腔体 |
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RF-300 | 等离子体发生器 | 频率13.56MHz ，0-300W自动阻抗匹配电源 | |
可调电极 | 可调节电极间距 | 电极间距20-60mm可调，改变等离子体场浓度特性 | |
CM装置 | 沉积镀膜模块 | 用于改变表面特性： 1. 沉积CF材料，样品表面可以具有憎水的特性 2. 沉积含苯材料，样品表面起到绝缘防水的特性 3. 沉积含有羟基的材料，提高样品表面和其他材料的结合效果。 | |
GP装置 | 气体纯化装置 |
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PPU | 粉体处理装置 | 用于处理微纳米级别颗粒 | |
| 气体收集装置 | 用于收集等离子体化学反应后的气体 | |
| 小型氧气发生器 | 用于制备氧气，可取代氧气罐 | |
| 气体混合装置 | 可以根据可以要求进行混气设计 | |
| 感应耦合模块 | 感应耦合等离子体装置 | |
| 加热电极模块 | 电极可以加热，室温~200度可调。 | |
| 光谱仪模块 | 可以增加光谱仪的接口，检测等离子体光谱变化 | |
| 电极转换模块 | 可以自由变换电极设计，样品可以放在射频电极上，也可以放在地电极上。从而实现不同的处理效果。 | |
