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PICOSUN™P-300B 原子层沉积系统
- 型号
- PICOSUN™P-300B
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上海磊微科学仪器有限公司 成立于2015年，总部位于上海市自由贸易区，是一家集销售、服务、技术支持及研发为一体的企业。公司主要产品为高精度的分析检测、生产设备及相关的备件，目前已与Park、Tescan、Picosun、Instec等优秀设备供应商建立战略合作关系。
上海磊微销售高精度的产品，同时培养了专业的销售和售后服务团队，以专业的服务获得了广大客户的认可。目前，上海磊微提供的产品广泛应用于芯片、显示、太阳能等半导体工业领域客户，同时服务于各大高校、科研院所，并以专业的销售和售后服务获得了广大客户的认可并建立了良好的合作关系。同时在北京、成都、深圳、合肥、烟台等地设有服务网点。
在半导体产业发展如火如荼的今天，上海磊微伴随着行业不断学习、积极提升自身水平， 为越来越多的客户提供了专业的产品和服务。今后，磊微将以不断培育的市场为依托，以先进优质产品为核心，以高效运作的团队为基础，迎来更快更好的发展。我们一直秉承团结创新、严谨奋进的企业精神，秉承诚信务实、互利多赢的经营理念，努力为客户、为社会提供高品质产品和服务。
详细信息
PICOSUN™P-300B原子层沉积系统已经成为高产能ALD 制造业的新标准。拥有热壁、* 独立的前驱体管路和特殊的载气设计， 确 保我们可以生产出具有优异的成品率、低 颗粒水平和电学和光学性能的高质 量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更 加方便、快捷， 最大限度的减少了系统的 维护停工期和使用成本。拥有技术的 Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积 保形性薄膜更高效， 并已在生产线上得到 验证。
PICOSUN™P-300B原子层沉积系统衬底尺寸和类型
• 200mm晶圆 25片/批次（标准间距）
• 150mm 晶圆 50片/批次（标准间距）
• 100mm 晶圆 75片/批次（标准间距）
• 非标准晶圆类基底（使用定制夹具）
• 高深宽比基底（最大深宽比1:2500）
工艺温度
• 50 – 500°C
标准工艺
• 批量生产的平均工艺时间小于10秒/循环*
• Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各种金属
• 同一批次薄膜不均匀性<1% 1σ
(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**
基片加载
• 气动升降， 手动装载
• 线性半自动装载
前驱体
• 液态， 固态， 气态， 臭氧源
• 源瓶余量传感器， 提供清洗和装源服务
• 4根独立的源管线，最多加载8个前驱体源
