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P-300F Picosun
- 型号
- P-300F
该企业相似产品
原子力显微镜，扫描电镜，原子层沉积ALD，探针
上海磊微科学仪器有限公司 成立于2015年，总部位于上海市自由贸易区，是一家集销售、服务、技术支持及研发为一体的企业。公司主要产品为高精度的分析检测、生产设备及相关的备件，目前已与Park、Tescan、Picosun、Instec等优秀设备供应商建立战略合作关系。
上海磊微销售高精度的产品，同时培养了专业的销售和售后服务团队，以专业的服务获得了广大客户的认可。目前，上海磊微提供的产品广泛应用于芯片、显示、太阳能等半导体工业领域客户，同时服务于各大高校、科研院所，并以专业的销售和售后服务获得了广大客户的认可并建立了良好的合作关系。同时在北京、成都、深圳、合肥、烟台等地设有服务网点。
在半导体产业发展如火如荼的今天，上海磊微伴随着行业不断学习、积极提升自身水平， 为越来越多的客户提供了专业的产品和服务。今后，磊微将以不断培育的市场为依托，以先进优质产品为核心，以高效运作的团队为基础，迎来更快更好的发展。我们一直秉承团结创新、严谨奋进的企业精神，秉承诚信务实、互利多赢的经营理念，努力为客户、为社会提供高品质产品和服务。
详细信息
PICOSUN P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有的热壁、*独立的前驱体管路和特殊的载气设计， 确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷， 最大限度的减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有专技术的Picoflow?使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效， 并已在生产线上得到验证。
PICOSUN原子层沉积系统是一种的薄膜制备设备，用于制备微米或纳米级别的涂层或膜，以应用于包括半导体、电子、生物医学和光学在内的多个领域。该系统采用原子层沉积（ALD）技术，可以实现高精度、高质量、高重复性和低缺陷的薄膜制备。
核心优势是利用薄膜制备过程中的化学反应动力学控制每个反应步骤的沉积速率和化学反应，以实现单层膜、多层膜或堆叠膜的精确控制。该系统可以使用多种有机/无机沉积气体材料，所以可以生产多种不同类型的膜层。
采用竖直式的设计，在反应室内通过副反应室进入气体，与基底进行反应沉积，尤其适用于小型和容易反应的样品，但也可用于大尺寸样品。核心组件包括压力锅、气压控制和仪器电气控制系统，使该系统具有的自动化和可重复性。
应用领域广泛，用于制造各种微电子设备如IC、MEMS、LED等，以及太阳能电池、氢燃料电池、生物医学器材、强化材料等各种领域。由于该系统具有高效、高可靠性和高灵敏度，因此其应用范围很广，具有的市场需求。以下是详细介绍。
原理与工艺
的是气相化学反应技术，采用在线反应室微观热墓和在线红外线吸收光谱检测系统，可以实现的反应速率和高度可控制的反应过程。两种基本反应原理是ALD一次反应。
第一反应：气态前体 A + 基底表面 - 第一层（物质A）
第二反应：气态前体 B + 第一层（物质A） - 第二层（物质B）
ALD制备薄膜的工艺流程如下：
1.基板预处理
清洗是保证ALD反应的可靠性和一致性的最基本的前置处理工艺。清洗是将基板的表面粗糙度、污染物和氧化层除去，以及提供活性表面。通常，清洗过程可以使用化学浸泡、酸洗和高温处理。在清洗过程中，应控制基板表面的稳定和一致，也应减少基板污染和金属热氧化。
2.沉积前处理
沉积前处理是为了去除基板表面的杂质，包括氧化物、有机物、水分子等，以便更好地与反应气体进行反应。一般来说，沉积前处理使用激活气体，如氢气、氟气、氮气等，在表面形成一个极其活性的表面，以便后续的反应。在沉积前处理过程中，要确保处理的稳定性和精确性。
3.原子层沉积
ALD的本质是在表面上原子层移植，通过ALD可控制每一层的沉积厚度，初始化速率和控制膜质量。ALD沉积一般采用静态反应，即在静止的气氛中，每个反应基元分子沉积。此过程需要多个升降温周期，即沉积源泵出B基元分子，气氛清洗，加热处理，B基元分子吸附，在加热的过程中，升高到C基元分子泵出的温度，C基元分子泵出，再经过清洗。
4.结束处理
在沉积完成后，需要进行后处理，以便将沉积过程中可能残留的化学物质去除，并使膜的性能更加稳定和均匀。后处理过程包括清洗和烘烤，清洗是为了去除残留的反应物，而烘烤是为了去除表面的水分和表面张力，并进一步强化膜的剩余应力。
产品特点
1.精确和可重复制
的是原子层沉积技术，具有非常高的精度，将落在每一层的薄膜厚度控制在数个原子的尺度上，随着复合层数目的增加，对最终的薄膜质量的要求也在增加。同时，该系统也具有非常高的可重复性，可以保证每个沉积过程的质量和结果都非常一致。
2.多样化的附加功能
除了标准的原子层沉积功能之外，PICOSUN原子层沉积系统还具有多种可选的功能，以满足不同领域的需求。比如，防反射涂层、光学薄膜、生物医用薄膜等，该系统可以根据不同领域的要求进行调整，定制化的生产薄膜，从而使客户得到产品。
3.高度智能化和技术
高度智能化的控制系统，使系统具有高度自动化和可重复性，可以在外部网站上实现现场监控和控制。同时，系统采用了的技术，如红外线光谱仪、微观热墓等，使系统具有高精度和高品质的制造工艺。该系统还采用多种原理和各种控件之间的同步性，在反应过程中保证了高度的一致性和可靠性。
4.广泛适用的应用领域
适用的领域非常广泛，产品广泛应用于半导体、光电设备、微电子制造、太阳能电池、启动装置、燃料电池制造、生物医学器材、电子电器制造等多个领域，以满足不同领域的需求。
5.专业的技术支持团队
PICOSUN原子层沉积系统由专业的技术支持团队支持，可提供全面的技术支持和培训，为客户的研发和制造保驾护航。在安装、调试和使用过程中感到疑惑时，可以随时联系技术支持团队获取帮助。
主要优势
1.制备高质量膜层：PICOSUN原子层沉积技术具有高度控制和预测性，可以在过程中获得高质量的膜层，使膜层的各种物理和化学性质得到精确地控制。
2.高度可控性和准确性：由于采用原子层级别制造技术，因此能在超小尺寸范围内控制每一层的厚度，从而精确地控制物质的性质，制备出满足不同需求的膜层。
3.良好的生产效益：由于精确的原子层沉积技术和高度智能化的控制系统，使得PICOSUN原子层沉积系统具有高效、可重复的生产效益。
4.更多的应用领域：与其他技术比较，原子层沉积系统具有更广泛的应用领域，可以广泛应用于电气、电子、光学、化学和生物医学领域等多种领域。
5.为客户定制的解决方案：PICOSUN原子层沉积系统还可定制化，以满足客户不同需求的需求，从而优化产品，为客户提供更好的解决方案。
主要功能
1.超高功能型防反射涂层
PICOSUN原子层沉积系统支持多种防反射涂层，例如纳米级SiO2和CaF2.这种超高功能型防反射涂层能够在材料上覆盖纳米粒子加强材料自身的反射镜效果，提升透过率和光响应度，适用于各种光学器件。
2.光电设备的制备
PICOSUN原子层沉积系统提供的ALD制备沉积技术，可应用于半导体和微电子制造领域。它可以高度控制膜的厚度和质量，制造器件的性能稳定，提高生产效率和降低成本。
3.太阳能电池的制造
利用ALD制备技术，可以制作高效率，耐用和高可靠性的太阳能电池。该系统采用多种化学反应，可以实现高度控制的层厚度、化学组成分布和加工能力，使太阳能电池更加坚韧、高效和可靠。
4.汽车启动装置的高效制造
汽车启动装置需要在各种环境下工作，PICOSUN原子层沉积技术可定制化制造多种高性能材料，可以满足这些环境的需要。该系统提供了高度控制的层厚度和化学组成分布，可以提供优质的动力学性能和高可靠性。
5.医学用途材料制备
与传统压滴涂涂等技术制备医用器材相比，PICOSUN原子层沉积技术可定制化制造其他多种材料，如沉积小分子化合物或生物材料膜、制备缓释药物等，从而提供更大的优质产品线选择。
6.氢燃料电池的高效生产
PICOSUN原子层沉积技术可应用于氢燃料电池的生产制造。该技术提供了多种精准制造功能，例如可定制化的负载控制，可快速制造出高质量、高精度的氢燃料电池。此外，该系统还可以克服传统生产方法所受到的成本和效率限制。
7.塑料、古董等物件的保护护理
PICOSUN原子层沉积技术也可用于物件保护层的制备。例如对于塑料制品和古董中的丝绸、纤维等材料,可制备保护层用于弥补这些物质的缺陷和凹陷，及从而维护其使用寿命，对它们的物理及化学性质中的损伤起到防护作用。
规格参数
PICOSUN原子层沉积系统技术参数：
最大沉积面积(mm): 200×200×800（WxDxH)
气氛处理方式: 静态/动态流
气氛处理材料：金属和半导体（纳米级和亚纳米级）
反应室最高温度(℃): 客户可定制化
外部尺寸(mm): 1200×900×1850WxDxH
设备重量(kg): 850
控制系统: 液晶触摸屏、PLC控制系统
反应器膜层数：最高可达1000
附属设备：
紫外线灯
真空泵
高精度仪器电热膜转台
红外线光谱仪
微观测热仪
多示波器
压力计
小型气泵
结论
PICOSUN原子层沉积系统是一种可以制备高质量、精准薄膜的薄膜加工设备，具有多种应用功能，可以制备多种膜层，涵盖多个领域和行业，包括半导体、电子、生物医学和光学等。其基于ALD技术的沉积过程具有高度可控性、高精准性和生产效益性，并且可以根据不同领域的需要进行定制化制造，以满足客户不同的需求。该系统的安装、调试和使用过程十分简单，质量和效率均得到保证，其有效地为客户提供了更多的解决方案，也为其带来更广泛的市场需求。
PICOSUN? P-300F系统代表了工业化ALD工艺。这个系统是为全自动的批量生产而设计， 并与工业标准化的单片晶圆真空集群平台相结合。 P-300F系统通过SEMI S2/S8认证，可以通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。
The PICOSUN? P-300F是IC行业创新驱动行业的选ALD系统！
衬底尺寸和类型
200 mm 晶圆 50片/批次
150 mm 晶圆 50片/批次
100 mm 晶圆 50片/批次
高深宽比基底（最大深宽比1:2500）
基底材料： Si,玻璃，石英， SiC,GaN, GaAs, LiNbO3, LiTaO3, InP
工艺温度和产率
50 – 300°C
最高达到1000片/24h@15nm Al2O3薄膜
批量生产的平均工艺时间小于10秒/循环*
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各种金属
同一批次薄膜不均匀性<1% 1σ
(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**
基片装载
全自动装载， 带垂直翻转功能的真空集群设备
通过Picoplatform? 200 真空集群系统进行盒 对盒批量装载
可选SMIF配置
前驱体
液态、固态、气态、臭氧源
源瓶余量传感器， 提供清洗和装源服务
6根独立源管线， 最多加载12个前驱体源
