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ME-Mapping光谱椭偏仪
武汉颐光科技有限公司（Wuhan Eoptics Technology Co,Ltd）是国内从事椭偏仪以及光学纳米测量设备研发、制造与销售的企业。公司由多位具有二十多年偏振光学测量经验的专家联合创办，与华中科技大学紧密合作，现有员工80%以上拥有硕士或博士学位，是椭偏光学仪器领域非常有优势的技术团队。
颐光科技注册于武汉东湖国家自主创新示范区，立足光谷，面向，为用户提供光学散射测量仪等系列产品，并提供仪器、软件、服务等综合解决方案。产品广泛应用于集成电路、半导体、光伏太阳能、平板显示、LED照明、存储、生物、医药、化学、电化学、光学镀膜和保护膜、减反膜、光刻材料等众多领域。
颐光科技充分利用武汉地区的交通便利和人才优势，立志成为中国的光学仪器设备研发创新平台和产业化基地，立志成为企业值得信赖的合作伙伴。
详细信息
一、概述
ME-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征和分析。
■ 全基片椭偏绘制化测量解决方案；
■ 支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量；
■ 配置Mapping模块，全基片自定义多点定位测量能力；
■ 丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。
二、产品特点
■ 采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)；
■ 高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集；
■ 具备全基片自定义多点自动定位测量能力，提供全面膜厚检测分析报告；
■ 数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料。
三、产品应用
ME-Mapping广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
可选配件
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| 真空泵 | 透射吸附组件 |
技术参数
