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customized 晶圆甩干机
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1. 产品概述:
晶圆甩干机是一种利用离心力去除晶圆表面多余液体的高精密设备。它能够在短时间内将晶圆表面的化学溶液、去离子水等液体甩干,确保晶圆的干燥度满足后续工艺的需求。其主要工作原理是利用高速旋转的甩干盘产生的离心力,辅以精密的机械臂运动系统,将附着在晶圆表面的液体迅速甩干,同时先进的控制系统和传感器确保整个过程的精确和稳定。
2. 设备应用:
· 半导体制造:在半导体制造过程中,晶圆需经过多道清洗工序以去除残留物和污染物,晶圆甩干机在这一环节起着重要作用,能够高效去除晶圆表面的水分和化学溶剂,为后续的光刻、蚀刻、沉积等工序创造洁净的工作环境。
· 光电领域:用于去除光学元件表面的水分,提高元件的质量和性能。
· 其他电子行业:如在电子、航空航天等行业中,可用于去除零件表面的水分,从而提高产品的质量和可靠性。
3. 设备特点:
· 高效甩干:采用离心力甩干的方式,能够快速而均匀地将晶圆上的水分甩离,避免水分残留导致的后续工艺问题,甩干速度快、效果好,提高生产效率。
· 自动化控制:具备自动化控制系统,能够实现晶圆的自动上料、甩干和下料,减少人工操作。
· 良好密封性能:可以有效防止水分泄漏,保护生产环境的洁净度。
· 结构紧凑:占地面积小,适用于各种规模的半导体生产线。
· 高性能材料:采用先进的材料制成,确保设备长期稳定运行。
4. 产品参数:
· 甩干腔室尺寸:决定了可容纳晶圆的大小和数量。
· 旋转速度:高速旋转以产生足够的离心力,转速范围可能根据不同型号有所变化。
· 单次甩干数量:例如有设备可单次甩干 1 - 25 块晶圆。
· 作业程序:冲洗、烘干的步骤顺序、时间、转速等可分段编辑,有的设备可设 recipe 为 10 个。
· 设备尺寸:包括整体的长、宽、高尺寸,反映设备的占地面积和空间需求。
· 实际参数可能会因设备的具体配置和定制需求而有所不同。