$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>掩模版和中间掩模版制造设备>掩模光刻胶处理及清洗设备

CPC-G/Gplus 全新CIF 实验室型等离子清洗机

型号
CPC-G/Gplus
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

卷对卷薄膜溅射系统

在线询价

卷对卷薄膜溅射系统

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

薄膜沉积PVD设备

在线询价

有机薄膜沉积和金属化系统

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

一、全新CIF 实验室型等离子清洗机 产品介绍

CIF推出全新一代实验室型等离子体清洗设备,并非传统等离子体清洗设备设计理念,可中试生产、模拟生产条件,几乎具备等离子体清洗设备所有的功能。采用顶置真空仓,上开盖下压式铰链开关方式,上置式360度自由取放样品托盘设计,具有较大的腔体尺寸和有效样品处理面积,使用成本低,性价比高,处理快速高效,特别适合于大学,科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。

二、全新CIF 实验室型等离子清洗机 产品特点

1.7寸彩色触摸屏互动操作界面,图形化用户操作界面显示,自动监测工艺参数状态,20个配方程序,可存储、输出、追溯工艺数据,机器运行、停止提示。

2. PLC工控机控制整个清洗过程,手动、自动两种工作模式。

3. 石英真空仓,真空管路系统采用316不锈钢材质,耐腐蚀无污染。

4. 采用质量流量计实现对气体输入精准控制,改变传统浮子流量计控制气体流量不准确问题。

5. HEPA高效过滤,气体返填吹扫,防止二次污染。

6. 60度倾角操作界面设计,符合人体功能学,操作方便,界面友好。

7. 顶置真空仓,上开盖设计,下压式铰链开关方式,开关盖方便。

8. 采用花洒式多孔进气方式,改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。

9. 上置式360度自由水平取放样品托盘设计,符合人体功能学,操作更方便。

10. 有效清洗面积大,可清洗最大直径8寸硅片。

11. 可处理不同几何形状、表面不同粗糙程度的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等样品,进行清洗和改性。

12. 安全保护,仓门打开,自动关闭电源。

三、技术参数

型号

CPC-G

CPC-G plus

CPC-12

CPC-12plus

舱体尺寸

H120xΦ270mm  

H120xΦ270mm

H120xΦ370mm

H120xΦ370mm

舱体容积

6.8L

6.8L

12.8L

12.8L

射频电源

40KHz

13.56MHz

40KHz

13.56MHz

匹配器

自动匹配

自动匹配

自动匹配

自动匹配

激发方式

电容式

电容式

电容式

电容式

射频功率

10-300W可调

10-150W可调

10-600W可调

10-300W可调

最大处理尺寸

Φ270mm 圆盘

Φ370mm圆盘

产品尺寸

L525xW425xH345mm

L618xW520xH465mm

包装尺寸

L645xW540xH560mm

L750xW640xH570mm

气体控制

质量流量计(MFC)(标配单路,可选双路)

时间设定

1-99分59秒

真空泵

抽速4-8m3/h

气体稳定时间

1分钟

真空度

100pa以内

电 源

AC220V 50-60Hz







相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :