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批量式电浆辅助气相沉积设备

型号
参数
应用领域:环保,化工,电子
北京瑞科中仪科技有限公司

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半导体材料分析,材料刻蚀

北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队,专精的服务,提供理想的解决方案。

我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向,用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流,打消顾虑,彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。

北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

客户至上的服务理念,以人为本的企业文化,我们始终为用户提供专业的服务!

合作丨共赢,选择我们,选择未来!

 

详细信息

批量式电浆辅助气相沉积设备(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。

此系統為專對派瑞林(Parylene)所設計,其腔體內部具有公自轉知特性,並批量式生產。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。

批量式电浆辅助气相沉积设备参数:

應用领域腔體
  • 醫療和商業產品的耐磨薄膜

  • 封裝、絕緣

  • 防刮顯示屏

  • 客製化的腔體尺寸,取決於基板尺寸和其應用

  • 通過使用水冷、水熱系統或加熱器來控制腔體溫度


配置和優點選件
  • 客製化的基板

  • 多載片

  • 優異的薄膜均勻性小於+-3%

  • 精準流量控制器,氣體分佈高度均勻

  • 使用電容式藕荷電漿(CCP)





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应用领域 环保,化工,电子
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