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FLOURIS 201系列 8英寸立式炉
- 型号
- FLOURIS 201系列
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
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详细信息
1. 产品概述
FLOURIS 201系列 8英寸立式炉，高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺。
2. 设备用途/原理
FLOURIS 201系列 8英寸立式炉，高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺，优良的颗粒控制技术，优良的膜厚均匀性控制技术，图形化操作界面和群组管理系统。
3. 设备特点
晶圆尺寸 8 英寸，适用材料 硅、碳化硅。适用工艺 高温氧化、退火、常压合金、Polyimide 固化。适用域 科研、化合物半导体、集成电路。百科：半导体立式炉的原理主要涉及到半导体材料的热处理过程，这一过程在半导体制造中至关重要。立式炉的设计允许对半导体材料进行精确的温度控制和气氛管理，从而促进材料的特定化学反应，如外延生长等。
