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TSC-150C/200C CMP后清洗机

具体成交价以合同协议为准 2024-09-06 深圳市

型号: TSC-150C/200C

深圳市矢量科学仪器有限公司

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

详细信息

该系列设备是碳化硅晶圆抛光后的专用清洗设备，采用连线式结构，设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面积小，湿进干出，适用于碳化硅晶圆抛光后的清洗。

产品特点

全自动系统

皮带传动， cassette in/out 干进干出

PLC控制系统

触摸屏操作

清洗工艺

预清洗/双面刷洗/药液喷雾漂洗 /兆声喷淋/高速甩干/氮气吹干

刷子类型

PVA 刷, 双面刷洗

性能参数

规格/参数	TSC-150C	TSC-200C
工艺	双面刷洗	双面刷洗
清洗工位	皮带传送式6工位	皮带传送式6工位
上下片	全自动	全自动
晶圆尺寸	3-6 inch	6-8 inch
上料位	浸没式	浸没式
漂洗（预清洗）	DIW冲洗	DIW冲洗
刷洗工位*2	2个PVA刷，双面刷洗	2个PVA刷，双面刷洗
PVA刷转速	30-400 RPM	30-400 RPM
兆声清洗	可选	可选
氮气吹干	有	有

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