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customized 硅片腐蚀清洗机
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1. 产品概述:
主要适用于对 2 英寸至 8 英寸的硅片进行腐蚀清洗,以满足半导体制造等相关领域对硅片表面处理的严格要求
2. 设备应用:
显影制程,蚀刻(微蚀刻)制程,去光阻清洗制程,去蜡(胶)清洗制程,精密清洗制程,光罩去光阻清洗制程
3. 设备特点:
适用对象:蓝宝石晶片、砷化镓晶片、碳化硅晶片、其它衬底基片
基本规格: 机台封面 聚丙烯磁白PP板材(厚度≧10mm)Or China SUS板材(厚度≧2mm)机台主机强度结构 整体骨架表面喷涂处理Or China SUS矩形材(厚度≧2mm)机台视窗透明、抗静电之聚氯乙烯PVC(厚度≧5mm) Or China 钢化玻璃(厚度≧5mm)
选配模块: 1.腐蚀液恒温系统
2.腐蚀液循环过滤系统
3.超(兆)声系统
4.全自动供液系统
5.更全面的全自动烘干系统
6.消防系统
7.可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理
机台特点: 1.蚀刻工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性
2.QDR冲洗模块非常见排序式,可根据制程工艺设定
3.集成自动烘干系统
4.管路系统、电气控制系统、伺服电机及丝杠导轨等关键核心部件均采用进口标准产品,配置模组化,维护保修便利,非期货库存品工厂内均建立安全存 量
5.全自动化控制,几何曲线加减速运动,冲击小,运动平稳,机械臂定位精度高
6.多级别用户工艺数据库,可供用户使用和存储
7.作业区内有害气体多种安全主动及被动保护相结合,保证操作人员作业环境及人声安全
8.客制化设计能力佳,高设计能力满足客户制程工艺需要
机械臂装置:Robo的工艺路径种N种(设备出厂前载入PLC内)
机械手传送定位精度≦ 0.3mm
机械臂走向前后位移一对一
转向、前后、左右、上下位移一对四
全程转向左右、前后、上下位移一对多槽等