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GNP CLEANER-412R CMP后清洗机
- 型号
- GNP CLEANER-412R
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
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公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
1. 基本参数
适用晶圆尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")
配置:输入喷淋清洗，两个双面刷清洗和旋转漂洗干燥(可选:分离QDR)
清洗机尺寸:1610w 1260d 1640hmm电刷尺寸:070(外径)031(内径)170(长)毫米
预清洗工位:DIW喷雾清洗，工位间DIW帷幕清洗
辊刷工位
化学：nh4oh或DIW
刷头型式:PVA刷头，可同时清洗晶圆片的正反面
刷位调节:手动控制(可用刷隙范围:-10mm ~ 2mm)
转速:<满量程的±5%范围30 ~ 400rpm
化学品供应:4个喷嘴和通过毛刷
可用化学品:2个化学品[NH4OH]
化学和DI流量:<满量程的±5%。
转站
选项:超高速扫描
旋转速度:最高2500转/分DI漂洗/ N2吹
控制工艺流程:手动加载，自动顺序，湿/干液晶触摸屏显示器，程序控制PLC式。
