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TSC-100/300S/200L CMP后清洗机

型号
TSC-100/300S/200L
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








详细信息

该系列设备是晶圆CMP后的用清洗设备,有单工位、转位式、连线式等不同结构,以适用不同应用场景,其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面积小,湿进干出,适用于各类CMP后晶圆的清洗。 

功能齐全

系列设备均配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能

操作简便

PLC系统,触摸屏控制,一键式自动完成刷洗清洗加工,其中连线式设备配有全自动上下片系统,cassette to cassette使用更加方便

兼容性好

通过更换夹具,可兼容4-12英寸晶圆

占地面积小

尽量减少洁净间的占地面积

产品参数

规格/型号TSC-100TSC-300STSC-200L
工艺单面刷洗双面刷洗双面刷洗
清洗工位单腔单工位单腔单工位连线式6工位
上下片手动手动全自动
机械手双臂机械手
晶圆尺寸4-6 inch4-12 inch6-8 inch
漂洗(预清洗)DIW冲洗DIW冲洗DIW冲洗
刷洗机构1个PVA刷,单面刷洗2个PVA刷,双面刷洗2个PVA刷,双面刷洗
兆声清洗可选可选可选
氮气吹干



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