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PECVD等离子沉积设备

型号
参数
价格区间:100万-200万 应用领域:环保,生物产业,石油,能源,制药
北京瑞科中仪科技有限公司

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北京瑞科中仪科技有限公司一家是专门从事数码光学显微镜及相关实验室设备研发与销售的新型高科技公司,也专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的材料分析解决方案,北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器,以专业能力导向,精细工艺流程,用科学手段解决科研中遇到的难题.彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。

公司主要产品包括:生物显微镜、金相显微镜、偏光显微镜、体视显微镜、数码显微镜、显微镜数码相机照相接口、显微镜*冷光源、数码图像分析系统、测量显微镜、三座标测量显微镜,激光细胞显微操作 拉曼显微镜光学仪器及设备/光学显微镜/荧光显微镜光学仪器及设备/电子显微镜/其它电子显微镜半导体行业专用仪器/其它半导体行业仪器设备其它半导体设备生命科学仪器/分子生物学仪器/PCR仪生命科学仪器/分子生物学仪器/基因测序仪生命科学仪器/分子生物学仪器/DNA合成仪半导体行业专用仪器/薄膜生长设备/其它薄膜沉积设备半导体行业专用仪器/光刻及涂胶显影设备/无掩模光刻机/直写光刻机

公司经销代理品牌包括:蔡司显微镜,奥林巴斯显微镜,尼康显微镜,徕卡显微镜,国产各厂家显微镜, 华粤行 ,基恩士 , 日本电,日立 ,布鲁克,三和联, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(铂金埃尔默)全系产品 ,天美爱丁堡,原子光谱,气相色谱,PE(铂金埃尔默)全系产品

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公司成立伊始,即本着“以人为本,诚信发展,合作共赢"的企业宗旨,快乐中结识新朋友,稳步中追求新发展。目前公司已经拥有一支由专业技术人员、营销人员和维修人员组成的强大队伍,竭诚为广大客户提供包括技术咨询、产品配套、安装调试、应用指导、维护保养在内的整套细致入微的服务。同时公司还依托中国地质研究院、清华大学、中国农业大学、中科院等科研院所的强大技术实力,特聘多名教授、博士作为我公司提供多方面的技术支持。

公司储备各显微镜现货,只要您有需求,我们就能随时为您提供各种产品选配服务。公司管理层、营销队伍和技术人员都具备多年的专业技术经验,相信我们的质量和服务一定是显微光学领域中无法可比的。

北京瑞科中仪科技有限公司秉承“专业的人员,过硬的技术,优秀的产品"精神,为您提供专业、及时、周到的技术服务,北京瑞科中仪科技有限公司必将成为您值得信赖的伙伴!












详细信息

PECVD等离子沉积设备

低成本效益高

PECVD等离子体增强化学气相沉积设备Depolab 200将平行板等离子体源设计与直接载片相结合。

升级扩展性

根据其模块化设计,PECVD Depolab 200可升级为更大的真空泵组,低频射频源和更多的气路。

SENTECH控制软件

强大的用户友好软件包括模拟图形用户界面,参数窗口,工艺处方编辑窗口,数据记录和用户管理。


Depolab 200是SENTECH基本的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,它结合了用于均匀薄膜沉积的平行板电极设计和直接载片的成本效益设计的优点。从2″至8″晶片和样品的标准应用开始,可以逐步升级以完成复杂的工艺。

PECVD Depolab 200的显著特点是系统的可靠设计,软件和硬件的灵活性。在该设备上开发了不同的工艺,例如用于高质量氮化硅和氧化硅层的沉积。PECVD Depolab 200包括带气路柜的反应腔体,电子控制,计算机、前级泵和配电箱。

Depolab 200 等离子增强沉积设备用于在从室温到400℃的温度范围内沉积SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。PECVD Depolab 200特别适用于沉积用于刻蚀掩膜,电隔离膜及其他的介质膜。

PECVD Depolab 200由SENTECH的控制软件操作,使用远程现场总线技术和用户友好的通用用户界面。

  • Depolab 200


  • 等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备

  • 开盖载片

  • 适用于大到200mm的晶片

  • 衬底温度可高达400 °C

  • 可选低频射频降低应力

  • 干泵组

  • 占地面积小

  • PECVD(等离子体增强化学气相沉积)等离子沉积设备是一种先进的材料表面处理技术,广泛应用于半导体制造、光伏产业、防护涂层及生物医学等多个领域。该技术通过利用等离子体的能量激活化学反应,在基材表面沉积出具有特定性能的薄膜,具有低温过程、高附着力和均匀性、优异的覆盖能力以及环境友好等显著特点。以下是对PECVD等离子沉积设备的详细产品介绍。### 一、技术原理PECVD技术结合了等离子体物理与化学气相沉积的优势,通过射频等手段使含有薄膜组成原子的气体在局部形成等离子体。等离子体中的高能电子、离子和自由基等活性粒子与气体分子发生碰撞,促进化学反应的进行,从而在基材表面沉积出所需的薄膜。这一过程不仅降低了沉积温度,还提高了沉积速率和薄膜质量。### 二、设备特点1. **高真空系统**:PECVD设备通常配备有高真空系统,由双级旋片真空泵和分子泵组成,以确保反应腔体内的高真空度,有利于减少杂质干扰,提高薄膜质量。2. **精确的气体控制系统**:设备采用数字质量流量控制系统,由多路质量流量计、流量显示仪等组成,实现对气体流量的精确测量和控制。同时,每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性。3. **模块化设计**:PECVD设备往往采用模块化设计,便于根据实际需求进行升级和扩展。例如,可以升级为更大的真空泵组、低频射频源和更多的气路,以满足不同工艺的需求。4. **先进的控制系统**:设备配备有先进的控制软件,通过远程现场总线技术和用户友好的图形用户界面,实现对工艺参数的精确控制和实时监控。用户可以通过参数窗口、工艺处方编辑窗口等功能,轻松设置和调整工艺参数。5. **广泛的适用性**:PECVD设备适用于多种材料的薄膜沉积,包括氧化硅、氮化硅、碳膜等。同时,其优异的覆盖能力使得该技术能够实现对复杂形状基材的均匀涂覆。### 三、应用领域1. **半导体制造**:在半导体设备生产中,PECVD技术用于沉积氧化硅、氮化硅等介电层,这些层是制造现代集成电路。通过精确控制薄膜的厚度和均匀性,PECVD技术有助于提高半导体器件的性能和可靠性。2. **光伏产业**:PECVD被广泛应用于太阳能板的生产过程中,特别是在沉积硅薄膜和透明导电氧化物(TCO)层方面。






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价格区间 100万-200万
应用领域 环保,生物产业,石油,能源,制药
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