$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>掩模版和中间掩模版制造设备>掩模光刻胶处理及清洗设备

ASx 系列 清洗设备

型号
ASx 系列
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

6/8英寸全自动槽式清洗机

在线询价

12英寸槽式清洗设备

在线询价

全自动硅料清洗机

在线询价

晶片清洗机

在线询价

硅芯清洗机

在线询价

硅片腐蚀清洗机

在线询价

CMP后清洗机

在线询价

CMP后清洗机

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1.产品概述:

SUSS MicroTecs ASx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了先进的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能够满足无损加工掩模的要求,用于 248 nm 和 193 nm 光刻工艺。

2.产品工艺:

晶圆尺寸:4、6、8英寸

小片的用工具

符合 SEMI S2、S8、S13

CE认证

符合欧洲标准和机械指令 2006/42/EC、EMC- 2004/108/EC 和低电压指令 2006/95/EC

DIN ISO 14.644 2

SECS/GEM 200/300 mm 工厂自动化标准接口

3.产品优势:

采用A+喷嘴在整个掩模上连续涂布介质,使显影的冲击力小化。

显影剂主动脱气,可防止微气泡的产生,实现低的缺陷计数。

PEB升为含APB的集群设备

高效的化学过滤(胺/酸)和精确的温、湿度控制

SMIF装/卸载的全自动化

增强的工艺控制与监测功能

与曝光后烘烤系统APB9500结合,获得佳效果


相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :