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森泰克刻蚀机Etchlab 200
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代理商北京瑞科中仪科技有限公司一家是专门从事数码光学显微镜及相关实验室设备研发与销售的新型高科技公司,也专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的材料分析解决方案,北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器,以专业能力导向,精细工艺流程,用科学手段解决科研中遇到的难题.彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。
公司主要产品包括:生物显微镜、金相显微镜、偏光显微镜、体视显微镜、数码显微镜、显微镜数码相机照相接口、显微镜*冷光源、数码图像分析系统、测量显微镜、三座标测量显微镜,激光细胞显微操作 拉曼显微镜光学仪器及设备/光学显微镜/荧光显微镜光学仪器及设备/电子显微镜/其它电子显微镜半导体行业专用仪器/其它半导体行业仪器设备其它半导体设备生命科学仪器/分子生物学仪器/PCR仪生命科学仪器/分子生物学仪器/基因测序仪生命科学仪器/分子生物学仪器/DNA合成仪半导体行业专用仪器/薄膜生长设备/其它薄膜沉积设备半导体行业专用仪器/光刻及涂胶显影设备/无掩模光刻机/直写光刻机
公司经销代理品牌包括:蔡司显微镜,奥林巴斯显微镜,尼康显微镜,徕卡显微镜,国产各厂家显微镜, 华粤行 ,基恩士 , 日本电,日立 ,布鲁克,三和联, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(铂金埃尔默)全系产品 ,天美爱丁堡,原子光谱,气相色谱,PE(铂金埃尔默)全系产品
代理经销的产品种类包括,荧光显微镜,荧光显微成像系统,激光捕获显微切割,全自动切片扫描,三维超景深显微系统,动物超声系统,3D超景深显微镜,形貌探测显微镜,蔡司共聚焦显微镜,全自动数字切片扫描,病理切片扫描,激光切割显微系统,立体显微镜,国产激光共聚焦显微镜,精准医学显微切割,激光显微切割系统,按需搭建显微系统,荧光光谱仪,激光细胞显微操作 拉曼显微镜光学仪器及设备/光学显微镜/荧光显微镜光学仪器及设备/电子显微镜/其它电子显微镜半导体行业专用仪器/其它半导体行业仪器设备其它半导体设备生命科学仪器/分子生物学仪器/PCR仪生命科学仪器/分子生物学仪器/基因测序仪生命科学仪器/分子生物学仪器/DNA合成仪半导体行业专用仪器/薄膜生长设备/其它薄膜沉积设备半导体行业专用仪器/光刻及涂胶显影设备/无掩模光刻机/直写光刻机
公司成立伊始,即本着“以人为本,诚信发展,合作共赢"的企业宗旨,快乐中结识新朋友,稳步中追求新发展。目前公司已经拥有一支由专业技术人员、营销人员和维修人员组成的强大队伍,竭诚为广大客户提供包括技术咨询、产品配套、安装调试、应用指导、维护保养在内的整套细致入微的服务。同时公司还依托中国地质研究院、清华大学、中国农业大学、中科院等科研院所的强大技术实力,特聘多名教授、博士作为我公司提供多方面的技术支持。
公司储备各显微镜现货,只要您有需求,我们就能随时为您提供各种产品选配服务。公司管理层、营销队伍和技术人员都具备多年的专业技术经验,相信我们的质量和服务一定是显微光学领域中无法可比的。
北京瑞科中仪科技有限公司秉承“专业的人员,过硬的技术,优秀的产品"精神,为您提供专业、及时、周到的技术服务,北京瑞科中仪科技有限公司必将成为您值得信赖的伙伴!
森泰克刻蚀机Etchlab 200 是一款高性能的等离子刻蚀设备,由德国Sentech公司研发生产。该产品结合了RIE平行板等离子体源设计与直接置片的成本效益设计,具有多种优势和特点,广泛应用于半导体、微纳加工、材料科学等领域。以下是对Etchlab 200产品的详细介绍:
模块化设计: 采用模块化设计,可根据用户需求进行灵活配置和升级。其真空系统、真空锁和供气系统均可按需求进行扩展,以适应不同的工艺需求。
高精度与灵活性:该设备能够实现高精度的微细结构制造和加工,同时其设计灵活,操作简便。用户可以通过简单的操作实现样品的快速加载和刻蚀处理。
成本效益森泰克刻蚀机Etchlab 200 结合了RIE平行板电极设计的优点和直接置片的成本效益设计,使得设备在保持高性能的同时,也具有较高的性价比。
用户友好:设备配备了SENTECH控制软件,该软件功能强大且用户友好,具有模拟图形用户界面、参数窗口、工艺编辑窗口、数据记录和用户管理等功能,方便用户进行工艺设置和监控。
样品加载:Etchlab 200具有简单快速的样品加载功能,支持从零件到直径为200mm或300mm的晶圆片直接加载到电极或载片器上。
设计特点:设备设计灵活、模块化且占地面积小。顶部电极和反应腔体设有诊断窗口,可方便地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH原位椭偏仪进行原位监测。
应用范围:Etchlab 200可配置用于刻蚀多种材料,包括但不限于硅和硅化合物、复合半导体、介质和金属等。
Etchlab 200等离子刻蚀机在多个领域具有广泛的应用,包括但不限于:
半导体制造:用于微纳加工、芯片制造等过程中的刻蚀工艺。
微纳加工:在微机电系统(MEMS)、微光学器件等领域中,用于制造高精度的微细结构。
材料科学:在材料表面改性、薄膜制备等领域中,用于实现材料的精细加工和改性处理。
森泰克刻蚀机提供完善的售后服务,包括安装调试现场免费培训、电话支持响应等。具体服务内容可能因销售商或代理商而异,请用户在购买前咨询相关服务细节。
综上所述,Etchlab 200是一款高性能、高精度、灵活且成本效益高的等离子刻蚀设备,在半导体、微纳加工、材料科学等领域具有广泛的应用前景。