$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>干法工艺设备>等离子体刻蚀设备

Plasmalab 133 牛津仪器 RIE 半导体刻蚀机

型号
Plasmalab 133
艾博纳微纳米科技(江苏)有限责任

顶级会员1年 

生产厂家

该企业相似产品

运动控制机柜

在线询价

体式显微镜

在线询价

无掩模光刻机

在线询价

倒置金相显微镜

在线询价

单色仪

在线询价

V型夹持架

在线询价

V型夹持架

在线询价

Z轴平移安装座

在线询价
探针台,二维材料转移台,金相显微镜,步进电机,步进电机控制器,原子力显微镜,拉曼光谱仪

艾博纳微纳米科技(江苏)有限公司致力于科研器材的研发与生产,以国际科研单位力量为支点,凝聚社会力量共同谋求推动全“人类科学发展与进步”。艾博纳微纳米科技(江苏)有限公司创立于中国江苏,用户群体分布于世界各国以及国内大陆大部分地区。公司主营业务有物理科研器材、二维材料转移装置、二维材料微纳加工设备、微纳米光学系统包括远场以及近场全波段光学显微系统研发、国产原子力显微镜、耗材(包含氮化硼国产高质量生长等各种晶体、硅片、超干净蓝膜胶带等)、其他二维材料制备相关设备如等离子处理仪、显像设备等。所有经由我司售卖的产品均享受售后保障,用户可放心购买。

 

详细信息

牛津仪器 RIE 半导体刻蚀机 Plasmalab 133。刻蚀是半导体器件制造中选择性地移除沉积层特定部分的工艺。在半导体器件的整个制造过程中,刻蚀步骤多达上百个,是半导体制造中常见的工艺之一。本设备支持的晶圆尺寸最大为300mm(330mm基台)RIE设置为GaN刻蚀射频功率:600W,13.56MHz水冷电极:10C-80C终点检测:Verity光发射光谱(200-800nm)带8条气体管线的气体舱,包括以下7个质量流量控制器(MFCs):Ar:100sccmCl2:100sccmBCl3:100sccmN2O:200sccmCHF3:200sccmNH3:100sccmCH4:50sccm

射频功率:600W,13.56MHz
水冷电极:10C-80C
终点检测:Verity光发射光谱(200-800nm)
带8条气体管线的气体舱,包括以下7个质量流量控制器(MFCs):
Ar:100sccm
Cl2:100sccm
BCl3:100sccm
N2O:200sccm
CHF3:200sccm
NH3:100sccm
CH4:50sccm





相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :