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RIE-300NR RIE等离子刻蚀设备
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1. 产品概述
RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统,适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆(ø3"×12,ø4"×8等),具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求,提高产量,大限度地延长正常运行时间,并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。
2. 设备用途/原理
去除夹层膜,用于ø300mm的失效分析。蚀刻Si、SiO2、SiN和聚硅氧烷。树脂的蚀刻和脱胶。光阻剂的灰化、剥离和除尘。表面改性(润湿性和粘附性的改善。
3. 设备特点
大加工范围:ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)。用户友好的触摸屏界面全自动 "一键式 "操作,可手动操作。优化的喷淋头可提供工艺气体的均匀性。减少停留时间的近距离耦合气体输送箱。对称的疏散设计与TMP相结合,形成了有效的流动。自动压力控制,可精确控制工艺压力,不受气体流量影响。干式泵和系统布局便于维护。