HORIBA/堀场 品牌
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定制化光谱系统
面议HORIBA Ultima Expert高性能ICP光谱仪
面议HORIBA OpenPlex表面等离子体共振成像仪
面议EMGA-Expert氧/氮/氢分析仪
面议氧/氮/氢分析仪
面议HORIBA Fluorolog-QM荧光光谱仪
面议HORIBA LabRAM Odyssey 显微共焦拉曼光谱仪
面议HORIBA LabRAM Soleil™高分辨超灵敏智能拉曼成像仪
面议HORIBA Duetta荧光及吸收光谱仪
面议XGT-9000 X射线显微分析仪
面议LA-960+LY9505激光散射粒度仪(干湿法)
面议Combiscope XploRA原子力- 拉曼联用系统
面议在线椭偏仪仪器介绍
在镀膜或刻蚀的过程中,实时监测样品膜的膜厚以及光学常数(n,k)变化。
在线椭偏仪技术参数
·可实现快速、实时在线监测样品膜层变化
主要特点
将激发和探测头引入生产设备,可实现:
· 动态模式:实时监测膜厚变化
· 光谱模式:监测薄膜的界面和组分