HORIBA/堀场 品牌
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定制化光谱系统
面议HORIBA Ultima Expert高性能ICP光谱仪
面议HORIBA OpenPlex表面等离子体共振成像仪
面议EMGA-Expert氧/氮/氢分析仪
面议氧/氮/氢分析仪
面议HORIBA Fluorolog-QM荧光光谱仪
面议HORIBA LabRAM Odyssey 显微共焦拉曼光谱仪
面议HORIBA LabRAM Soleil™高分辨超灵敏智能拉曼成像仪
面议HORIBA Duetta荧光及吸收光谱仪
面议XGT-9000 X射线显微分析仪
面议LA-960+LY9505激光散射粒度仪(干湿法)
面议Combiscope XploRA原子力- 拉曼联用系统
面议真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性;*的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。
真空紫外椭偏仪产品特点
50KHz 高频PEM 相位调制技术
45 秒内完成充氮气
2 分钟内完成样品室抽真空
8 分钟内完成光谱全谱范围内测量
两种工作模式:氮气清洗结合抽
真空、连续氮气清洗
光谱范围:147nm~850nm;147nm~2100nm
重点应用领域
超薄膜
157nm 光刻新材料
有机材料、高分子材料
高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
抗反射涂层
半导体和介电材料电子跃迁
MgF2、CaF2、LaF3