等离子增加化学气相沉积CVD系统
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BTF-1200C-SL-A等离子增加化学气相沉积CVD系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-08-15 11:39:01
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安徽贝意克设备技术有限公司

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产品简介

BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑轨等离子增加化学气相沉积CVD系统。本设备集真空系统、供气流量系统、自动推进、加热于一体,并将所有控制集成于触屏操控界面之中,使设备更加智能化,便于使用者操作。温度范围宽:100-1200度可调,加热区域长度:1650mm。适用范围宽:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,连续生长各种薄膜等。

详细介绍

一、设备简介

BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑轨CVD系统。本设备集真空系统、供气流量系统、自动推进、加热于一体,并将所有控制集成于触屏操控界面之中,使设备更加智能化,便于使用者操作。温度范围宽:100-1200度可调,加热区域长度:1650mm。适用范围宽:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,连续生长各种薄膜等。


二、技术参数

功率

3KW

额定电压

AC 220V  50/60HZ

最高温度

1200℃

工作温度

1100℃

推荐升温速率

10℃/min

空开大小(自备)

2P 40A

炉管尺寸

高纯石英管Φ100*1400mm


等离子增加化学气相沉积CVD系统

最大滑动距离

880mm

控温方式

模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制

控温精度

±1℃

加热元件

电阻丝

热电偶

K型

质量流量计

两路500sccm+5000sccm

机械泵

10m3/h

设备净重

约230Kg




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