AutoChem全自动化学反应釜用于各种气液、气固、液固等物质在一定的压力、温度等条件下反应的设备，在物质的化学、聚合、分解、水热、加氢、腐蚀、超临界、制药等方面具有广泛的应用，能够进行实验数据的显示和采集。主要用于模拟不同温度压力转速下二氧化碳腐蚀，以及二氧化碳腐蚀防护用缓蚀剂配方的研究。

AutoChem全自动化学反应釜运行环境要求:
电压220VAC±10%；
室温5～40℃；
相对湿度20%～80%；
森朗全自动化学反应釜所有变量及参数的单位，均采用法定计量单位。

技术要求：
1.1容积：≥500ML
1.2温度、压力：≥350℃，压力：≥10MPa；
1.2.1 所有接触腐蚀环境的材质均为哈氏合金C-276。
1.3反应釜体、釜头的材质均为哈氏合金C-276，阀门的材质为不锈钢316。
1.4 釜头：
1.4.1主釜头：
1.4.1.1磁力搅拌器（哈氏合金C-276）；驱动方式：机械搅拌，配有搅拌杆和推进式搅拌桨（哈氏合金C-276），磁力密封，驱动电机无级调速，转速0-1200转/分钟连续可调；
1.4.1.2密封方式：PTFE的密封垫片，开环式密封结构，非法兰式密封方式；
1.4.1.3双量程压力表和防腐防爆膜；
1.4.1.4热电偶套管（哈氏合金C-276）和热电偶；
1.4.1.5液体采样阀和气体进样阀，和探底管（哈氏合金C-276）相连；
1.4.1.6气体释放阀，用于排空反应釜内的气体，释放压力；
1.4.1.7内置冷却水盘管（哈氏合金C-276）。
1.4.2密封方式：PTFE的密封垫片，开环式密封结构，非法兰式密封方式；
1.5 加热方式：电加热炉，采用高性能绝热材料，提供反应釜所需温度，有快速冷却功能，釜内350℃时，可快速降至室温。
1.6控制系统：搅拌转速控制和PID/程序温控器；温度数字显示，并带超高温保护模块；压力数字显示，并带超高压保护模块；转数数据显示模块；控制器双向通讯电缆，实现温度、转速控制、温度/转速的数据采集及存储。

铸就实验室反应釜主流影响力，助力中国科研事业发展。世纪森朗拥有着十多年微型高压反应釜加工技术经验和反应设备核心技术，可为用户定制加工适应不同实验体系的反应设备，并保证其、稳定、操作简便。