PS培养皿亲水性等离子表面清洗机 TC处理仪
一、激活键能-交联作用：
PLASMA等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到样品表面后，可以使样品表面原有的化学键(C=C、C=O、C=N、Si-Si、Si-O等)产生断裂，PLASMA等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。
二、对材料表面轰击刻蚀-物理作用
物理作用其反应机理主要是利用plasma等离子体里大量的离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着在表面的原子打掉，不但清除了材料表面原有的污染物和杂质，还会产生刻蚀作用，将材料表面变“粗糙”，形成许多微细坑洼、沟壑，增大了材料表面的比表面积，提高材料表面的润湿性能。由于离子在压力较低时的平均自由基较长，得到能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有更多的能量作撞击，所以若要以物理作用为主时，就必须控制在较低的压力下进行反应，为了保证真空等离子处理仪腔体内较低的压力，需要持续通入空气或者其他惰性气体(氩气、氦气等)，这样处理效果较好。物理作用下的等离子处理适用于玻璃、陶瓷、金属等材料。
三、形成新的官能团-化学作用：
化学作用其反应机理主要是利用PS培养皿亲水性等离子表面清洗机 TC处理仪里的自由基与材料表面产生化学反应，频率和压力较高时，对自由基的产生较有利，所以若要以化学反应为主时，就必须配备较高的频率和较高的压力来进行反应。
在化学反应里常用的气体有氢气(H2)、氧气(O2)、甲烷(CF4)、氨气(NH3)等，这些气体在真空等离子处理仪腔内反应成高活性的自由基，会在材料表面发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如羟基(-OH)、氨基(-NH2)、羧基(-COOH)、醛基(-CHO)等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性，起到活化改性的作用。化学作用下的等离子处理适用于塑料、高分子、油污、聚合物等材料。需要特别说明的是有一些材料处理既需要物理作用，也需要化学作用，例如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，氧化铟锡(ITO)、硅片、PET薄膜、二氧化硅(SiO2)、PTFE、二硫化钼等，这个时候应该选用等离子体激发频率是13.56MHz的真空等离子处理仪。
四、PLASMA处理的方向性-粉末或细小颗粒：
Plasma清洁仪配备清洗托盘，把样品放在托盘上，样品朝上的一面等离子处理效果明显，样品贴着托盘的一面处理效果不明显，原因是等离子体需要空间让其做高速运动，而样品贴着托盘的那一面，空间变小，不利于等离子体对样品表面进行处理，所以样品哪一面需要等离子处理，就把那一面朝上，如果两面都需要等离子处理，常规的做法是待样品的一面处理结束后，把样品取出翻转再进行另一面的等离子处理，但如果样品是粉末或者微小颗粒，这个方法就有局限性。
