NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀

NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-11-13 11:17:29
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产地类别:进口;应用领域:医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药;
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医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药
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产品简介

NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀:是带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。

详细介绍

DRIE深反应离子刻蚀

NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀概述:是带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8" ICP源。系统可以配套500L/S抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。

NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀主要特点:

配置内容:

 

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