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SPA-5300大气等离子防水镀膜机
大气等离子防水镀膜机原理：药水通过加热形成气体/蒸汽，用N2作为等离子工艺气体，等离子体与药水发生聚合反应，产生聚合物纳米颗粒，在产品表面上形成纳米薄膜。 参考价面议 -
RTP-Table-6桌面式半导体快速退火炉
桌面式半导体快速退火炉，RTP-TABLE-6是一款桌面型快速退火设备，标配三组工艺气体，可最大兼容6英寸晶圆Wafer。 参考价面议 -
RTP-SA-12半自动快速退火炉
半自动快速退火炉RTP-SA-12是在保护气氛下的半自动立式快速退火系统，可兼容4-12英寸晶圆Wafer。 参考价面议 -
RTP-DTS-8全自动双腔半导体退火炉
全自动双腔半导体退火炉，RTP-DTS-8是一款全自动双腔快速退火设备，可兼容6-8英寸晶圆Wafer。 参考价面议 -
SPV-500MW石墨舟干法清洗
石墨舟干法清洗技术，光伏行业石墨舟镀层专用，优点：占地面积小、代替酸洗、一站式清洗、干法清洗、效率高。 参考价面议 -
DFA-20E离子风机离子除静电
本产品是DFA-20E离子风机离子除静电专⽤设备，产品主要特点是功耗低，⼲扰⼩，使⽤安全。结构上采⽤可更换放电针的⽅式设计，减少使⽤成本。⾼压电路使⽤⾼频AC的⼯作方式，具有良好的离⼦平衡效果，可以快速有效的进⾏⼤⾯积的除静电功能。控制单元具备机台联动报警，PC端远程操控的功能等。 参考价面议 -
SPE-201P微波等离子去胶机 ICP RPS
达因特半导体微波等离子去胶机 ICP RPS是一种低压微波等离子去胶系统，应用于晶圆光刻胶去胶、晶圆表面活化。自由运动的电子产生Plasma进入腔体所在的料盒进行工艺清洗。通过对真空腔体壁上的窗口施加频率为2.45GHz的微波可以产生大量的持续Plasma。腔体适用于不同尺寸的料盒。微波等离子去胶机可以提供快速的无损伤的等离子去胶效果。系统的等离子去胶效果是由被激活的自由基穿过料盒来实现的。 参考价面议 -
SPV-100MWR微波等离子去胶机-半导体/芯片除胶
微波等离子去胶机-半导体/芯片除胶
自由基分子的等离子体无偏压，无电性损坏；
产品可放在托盘、开槽或封闭的Magizine，处理效率高；
Magizine可配置旋转架，通过合理的ECR设计，良好的气体流量调节，可以达到比较高的均匀度；
集成的控制系统设计，自主研发控制软件，操作更方便； 参考价面议 -
DMA-100离子风嘴除静电消除设备
DMA-100离子风嘴除静电消除设备采用直流24V供电，压电陶瓷变压器升压，在专用的高压发射极上产生高频高压电离空气，产生大量平衡良好的正负离子，并通过压缩空气输送至被消除静电物体表面消除静电。 参考价面议 -
VPV-USC-300mUSC非接触式超声波除尘设备
USC非接触式超声波除尘设备,晟鼎精密-USC干式超声波除尘系统，通过鼓风机给超声波发生腔提供14-20KPa的洁净气体产生超声波，利用超声波的能量及振动，以拉升，滚动 及滑动三种运动方式（单一和混和）使尘粒从材料表面分离出来，是一种高效安全清洁的干式去尘设备。 参考价面议 -
VPV-USC-200m干式超声波清洗机厂家_USC除尘系统
干式超声波清洗机厂家_USC除尘系统,晟鼎精密-USC干式超声波除尘系统，通过鼓风机给超声波发生腔提供14-20KPa的洁净气体产生超声波，利用超声波的能量及振动，以拉升，滚动 及滑动三种运动方式（单一和混和）使尘粒从材料表面分离出来，是一种高效安全清洁的干式去尘设备。 参考价面议 -
SPV-200PCB板等离子清洗机
PCB板等离子清洗机可在线高速处理，提高生产效率，利用等离子体的特点，对需要处理的固体材料表面进行清洁、活化、激活，从而实现改变表面微观结构、化学性质、能量的目的。 参考价面议