原子层沉积系统
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原子层沉积系统

PICOSUN ALD原子层沉积系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-09-25 13:45:45
1552
属性:
价格区间:100万-200万;应用领域:能源,电子,航天;
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产品属性
价格区间
100万-200万
应用领域
能源,电子,航天
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北京亚科晨旭科技有限公司

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产品简介

PICOSUN 原子层沉积系统ALD R-200 Pro;PICOSUN R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。

详细介绍

名称:PICOSUN 原子层沉积系统

产地:芬兰

Picosun简介

Picosun是yi家公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括  大的电子制造商,小型的创新型挑战者以及的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有*的内置可扩展性,可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中,而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案,从而引ling行业发展时,Picosun是您的合作伙伴。


PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了大的产出效率,并且具有的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能*具有严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求,确保每时每(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有好的性能,*您的需求。


PICOSUN 原子层沉积系统技术指标

衬底尺寸和类型

50 – 200 mm /单片

156 mm x 156 mm 太阳能硅片

150 mm x 150 mm 显示面板

工艺温度

50 - 500 °C , 可选更高温度

基片传送选件

气动升降(手动装载)

半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现

25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现

标准

SEMI S2 认证(认证中)

前驱体

液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体(多4路气体):

前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务

6根独立源管线,多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)

重量

790 kg

尺寸 (W x H x D)

160 cm x 80 cm x 240 cm

可选件

集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与 工厂软件连接服务。

验收标准

标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,

其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:

--不均匀性

--颗粒物含量

--重金属污染

--电学性能

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro(图例)


应用领域

PICOSUN™ 200mm 生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑,高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和短的停机时间。PICOSUN™ P系列Pro工具保证了大产能以及节约成本的情况下得到的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。

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