Film Sense FS-1多波长椭偏仪

  Film Sense FS-1多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动 式部件椭偏探测器，可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现可靠地薄膜测量。大多数厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要简单的 1 秒测量，就可以获得准确的数据。还可以测量大多数样品的光学常数和其他薄膜特性。

  Film Sense FS-1多波长椭偏仪 这款功能多波长椭偏仪，售价只是单一波长椭偏仪和光谱椭偏仪的中等水平。FS-1可应用于研究实验室，超净间，原位工艺腔体以及工业质量控制等诸多领域。

主要特点

• 4 个 LED 光源：蓝色（465nm），绿色（525nm）， 黄色（580nm），红色（635nm）

• 椭偏仪探测器中无可移动部件

• 良好的膜厚精密性，大多数样品精密度高于 0.001nm（1 秒获取数据），对于亚单原子薄膜精密度等于0.001nm

• 集成计算机，可实现对设备控制和数据分析，自带浏览器界面，可兼容任何现代计算机，笔记本或平板电脑

优势

• 寿命长（长达50,000小时），更换 LED 灯便宜，校准时间短或无需PM程序

• 快速测量（10ms 内获得多波长数据）和长期性能稳定

• 测量精确，椭偏仪可以实现

• 软件设置和维护简单

标准 FS-1 配置

• 65°入射角

• 手动放置样品和调节高度

• 样品尺寸直径200mm 和厚度23mm

• 样品偏转范围+/-20

• 样品上光束尺寸 5 x 12 mm

• 结构紧凑(180 x 400 mm) 和轻巧(4.8 kg)

性能

    FS-1多波长椭偏仪擅长测量膜厚范围 0-1000nm 的透明单一薄膜的厚度和折射率。下表列出的是针对各种不同样品，包括多层膜样品，FS-1获得的标准测量精密度和准确性数据。

应用领域

• 半导体行业：二氧化硅和氮化物，高介电和低介电材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻胶

• 光学薄膜行业：高和低指数薄膜，如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 等

• 显示屏行业：TCO（如 ITO），非晶硅薄膜，有机薄 膜（OLED 技术）

• 数据存储行业：宝石，如碳膜

• 工艺研发：原位表征薄膜沉积（速率和光学常数） VS 工艺条件，可兼容 MBE, MOCVD, ALD 和磁控溅射等设备

• 化学和生物：在液体细胞实验中探测亚单原子层材料吸附

• 工业：在线监测和控制膜厚

In Situ 在线测量功能

• 亚单原子膜厚精密度

• 多工艺条件下测定薄膜光学常数 n&k 和沉积速率，不会破坏真空

• 监测和控制多层膜结构沉积

• FS-API 界面，外置软件控制（兼容 LabVIEW ）

• 兼容大多数薄膜沉积技术：磁控溅射，ALD，MBE，MOCVD，电子束蒸发等

In Situ在线测量

    产品包括 FS-1多波长椭偏仪，带紧凑自动mapping样品台，可以实现快速，准确和可靠的薄膜均匀性测量。

特点和参数

• 4 段波长的椭偏数据（465, 525, 580, 635 nm），寿命长的LED光源，探测器内无可移动部件

• 可对 0-1000nm 透明薄膜进行准确的厚度测量

• 标准浓厚重复性 0.015 nm

• 集成聚焦探针，标准光斑尺寸 0.8 x 1.9 mm （其他尺寸 可选）

• 电动 Z 轴样品台自动准直

• 灵活扫描图案编辑器

• 测量参数等值线绘制

聚焦光束选件

样品上光束尺寸减小到 0.8 x 1.9 mm 或 0.3 x 0.7 mm

聚焦光束检测

聚焦光束检测系统包括一个 FS-1 多波长椭偏仪，带光束聚焦光学器件和一个手动位移台。该系统非常适合用于手动检测和在图案化半导体晶圆上进行质量控制测量。

可进行科研测量，带小尺寸光斑和相机成像功能

手动位移台，可容纳 4’，5’，6’晶圆

样品上光束尺寸 0.3 x 0.7 mm

样品上光束位置视频图像

FS-XY150

标准晶圆 map 时间：60s（150mm 晶圆上取 49 个点）

结构紧凑：600x600 mm, 16 kg

样品台行程（X,Y）：150 x 150 mm, 精度：5 μm

FS-RT300

• 标准晶圆 map 时间：90s（300mm 晶圆上取 49 个点）

• 结构紧凑：400x500 mm, 22 kg

• 样品台行程：R (线性) ：150 mm, 精度：12 μm

• 角度（旋转）360°，精度：0.1°