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NLD-3000原子层沉积系统
面议NPD-4000(M)PLD脉冲激光沉积系统
面议NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统
面议NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD
面议NMC-3000 PAMOCVD系统
面议NMC-4000(M)PAMOCVD系统
面议NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统
面议原子层沉积系统
¥450000NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统
面议NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系统
面议NPE-4000PECVD等离子增强化学气相沉积系统
面议NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NEE-4000E-Beam电子束蒸发系统
NEE-4000E-Beam电子束蒸发系统概述:
NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间带有门阀作为预真空锁,使电子束源腔体保持真空的情况下,通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基片时,可以通过第三方的预真空锁来实现。通过PC计算机控制,系统可以提供多电子束源的共蒸发能力,以及对组分或组分梯度进行编程的能力。
产品特点:
产品型号: