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EFC270蚀刻残留物去除剂

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德国韦氏纳米系统（香港）有限公司

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产品简介

杜邦蚀刻残留物去除液

杜邦™plasmasolv®ekc265™蚀刻后残留物去除

特点：

制定zui jia的金属堆栈完整性

“改进”宽窗口处理能力

强化蚀刻残余物去除

清洗的掩膜减少化学残留

超大规模集成电路（ULSI）级规格*进封装清洗

工作温度下蒸发速率低

应用：

应用EKC265™蚀刻后残留物器广泛应用在半导体行业，以满足关键的清洁需求

从高深宽比MEMS器件100μm+ 到*进DRAM 的70nm集成的各个阶段

下面列出了常见的应用程序：

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