CVD铜基单层氮化硼薄膜/硅基/石墨烯异质结

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CVD-WS2-WSe2面内异质结
CVD-少层氮化硼BN薄膜
硅基单层氮化硼BN薄膜
CVD-多层氮化硼BN薄膜
CVD-PdS2薄膜（）
硅基氮化硼/石墨烯异质结
铜基单层氮化硼薄膜
SiO2/Si衬底单层氮化硼薄膜
一步转移法单层氮化硼薄膜
CVD-2H-MoTe2全覆盖连续薄膜（）
CVD-WSe2 全覆盖连续薄膜
CVD-WSe2 全覆盖连续薄膜()

CVD铜基单层氮化硼薄膜/硅基/石墨烯异质结

铜基单层六角氮化硼薄膜，六角氮化硼结构是类石墨烯结构，具有很高的研究价值，也可以用转移石墨烯的方法转移六角氮化硼材料。h-BN是一种直接带隙为5.97ev的体。由于h-BN具有很强的共价sp2键，其面内力学强度和热导率与石墨烯相近。h-BN比石墨烯具有更高的化学稳定性；它在空气中的稳定性可达1000℃（相比之下，石墨烯的相应温度为600℃）。

在化学气相沉积过程中，铜箔的两侧都会生长BN

规格：

接近*覆盖（90-95%），有一些小洞

铜箔的厚度是20微米

高结晶质量，见SAD（选定区域[电子]衍射）数据

透射电镜质量。TEM显示出的六边形结构。

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