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全类型particle counter

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-12-01 14:40:03
420
属性：
应用领域:综合；光学系统：:同时3种通道检测， 可到达分辨率0.1um；?速系统：:6 inch 只要3分钟；复判判断：: 内建整合DIC显微镜， 可透过?倍率的?式对于瑕疵进?影像确认与分析.；分类模块：:可针对瑕疵尺???进?分类统计， 后续还可对于不同通道的讯号进?AI瑕疵分类.；
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产品属性
应用领域
综合
光学系统：
同时3种通道检测， 可到达分辨率0.1um
?速系统：
6 inch 只要3分钟
复判判断：
内建整合DIC显微镜， 可透过?倍率的?式对于瑕疵进?影像确认与分析.
分类模块：
可针对瑕疵尺???进?分类统计， 后续还可对于不同通道的讯号进?AI瑕疵分类.
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苏州锐纳微光学有限公司

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产品简介

Wafer光学量/检测系统
⾃动⼯业显微镜系统 (5X~150X)
Wafer 表⾯瑕疵检测系统 (1um)
Particle counter检测设备 (0.1um)
光学系统： 同时3种通道检测， 可到达分辨率0.1um
⾼速系统： 6 inch 只要3分钟
复判判断： 内建整合DIC显微镜， 可透过⾼倍率的⽅式对于瑕疵进⾏影像确认与分析.
分类模块： 可针对瑕疵尺⼨⼤⼩进⾏分类统计

详细介绍

具备各种光学之应⽤与设备制造能⼒, 多年的产业经验, 可灵活的搭配不同光机硬件设计, 并且客制化对应各种所需在线系统。完善的软件团队开发团队, 开发3D量测软件, 同时也⾃⾏建构AI辨识系统, 可根据项⽬需求提供客户最完整的解决⽅案。具有SEMS 認證，特別開發应⽤于第三代半导体材料，克服透明与半透明材料的寻边对位，可对不同尺寸晶圆进⾏传送与检验。

具备各种光学之应⽤与设备制造能⼒, 多年的产业经验, 可灵活的搭配不同光机硬件设计, 并且客制化对应各种所需在线系统。完善的软件团队开发团队, 开发3D量测软件, 同时也⾃⾏建构AI辨识系统, 可根据项⽬需求提供客户最完整的解决⽅案。具有SEMS 認證，特別開發应⽤于第三代半导体材料，克服透明与半透明材料的寻边对位，可对不同尺寸晶圆进⾏传送与检验。

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