简介：

C60-20S 离子源系统是一种高性能离子束，设计用于溅射表面，具有较小的损伤和减少的沿周溅射效应。 

C60-20S 离子源系统在高达20 kV的电压下工作，可有效地溅射材料，且损伤较小，无需重新沉积碳。

C60是XPS、AES和SIMS的理想升级组件，可在多种材料上均匀溅射。

主要参数：

特点:  

◇  电流密度高，蚀刻速度更快；

◇  与单原子束相比，可减少化学损伤；

◇  不同材料和晶体取向的溅射率一致；

◇  闸阀，便于快速维修；

◇  源寿命长；

应用领域： 

◇  聚合物的高速、低化学损伤蚀刻；

◇  C60离子溅射的速度比单原子束(包括氩和氙)快50倍，同时 对底层材料造成的损害要小得多；

◇  下图比较了15kev的C60溅射产率与15kev金、氙镓和氩的TRIM数据。在相反的例子中，用C60和单原子氩离子束溅 射清洗PTFE薄膜；

◇  虽然两种离子束都去除了表面污染，但只有C60离子束的表 面化学性质没有发生变化；