Nonsequitur 大束流离子源离子枪

Model 1404设计特点：

高亮度电子冲击离子源

连续可变光束能量，最多3kV

束流0-10uA

支持所有惰性气体外加氮气，可选氧气功能，带Thoria涂层灯丝

所有材料采用超高真空和耐腐蚀材料

配备可用于可变蚀刻区域和光束准直的冷凝器透镜

配备用于计算机控制的USB接口和图形用户界面

Nonsequitur 大束流离子源离子枪

Nonsequitur公司的Model 1401离子源离子枪非常适合用于表面化学实验，例如使用Auger 和ESCA进行样品制备和深度分析，可以用于惰性气体。

在工作距离为25mm，束流大小为20µA时，光斑为直径0.4mm。相比较于其他的离子枪而言，离子枪Model 1401能提供的电流密度是其他离子枪的1-倍。当束流为1µA时，光斑最小可以选择到50µm. 电子束能量可以在范围5eV到5keV中选择，并同时保持样品的最佳聚焦。束流大小可以调节，并不受电子束能量的影响，无需外部设备，可以直接从前面板进行调节。

通过电子冲击来生成离子，双灯丝设计可以延长使用寿命，而无需中断设备的使用。离子源的真空灯丝处于离轴状态，以防止灯丝材料沉积到样品上。

Nonsequitur 铯离子枪 碱性离子枪设计特点

• 用户可更换Frit离子源以产生各种离子

• 光斑可调 75um to >1mm for spatially defined sputtering

• 连续可变束流能量，最高 5keV

• 使用光束弯曲光学元件进行中性种抑制

• BTOF SIMS的光束消隐能力

• 集成束流监控能力

• 可选光束束电极

• 采用适合超高真空和耐蚀刻的材料

• 用于减小光斑尺寸的透镜偏转

• 差速泵，以尽量减少主腔室气体负载

•  Ion Guns Model 1407 设计特点

• 紧凑型离子源，双等离子发射器

• 可调节的束斑， ≥ 15µm ，用于空间定义的溅射

• 可调节发射，提供稳定的束流，前面板可调动态范围 x300

• 连续可变电子束能量，最高达 5keV

• 用于电子束扫描和校正的双电极

• 用于减小束斑大小的预目标透镜偏转

• 集成束流大小监测

• 灯丝不直接到样品，避免不必要的样品污染

• 可更换电子束修剪孔径板，典型使用寿命> 500 hours

• 提供双灯丝备份

• 内部源压力传感器，允许监控离子源压力

• 采用适合超高真空和耐蚀刻的材料

• 差速泵，以尽量减少主腔室气体负载

• 在惰性气体下运行

• Nonequitur李子源Model 1450设计特点

• 可调节的光斑尺寸≥5um，用于空间定义的溅射或注入。发射调节轰击提供稳定的离子电流。连续可变的束能5kV至50kV。双八极用于束扫描和像散校正。预物镜扫描可减小光斑尺寸。没有直接的灯丝到样品视线，以避免样品污染。客户可更换的灯丝和束修整孔。双灯丝在灯丝寿命结束时提供操作备份。制造中使用的所有UHV兼容和耐蚀刻材料。差分泵送可最大限度地减少主室气体负载。在惰性气体和氮气范围内工作