美国 LK-Technologies 离子源 真空 NGI3000

美国 LK-Technologies 离子源 真空 NGI3000

LK-Technologies强大，流行的离子源设计用于通过离子溅射清洁表面，光束能量高达3 keV，典型离子电流高达30μA。该喷枪采用了一种新颖的气体喷射系统，该系统允许在典型的1×10 -6托的腔室压力下进行溅射。

• 气体注入系统避免了昂贵的差动泵送设备

• 低室压下的惰性气体溅射

• 宽离子束确保均匀溅射

• 与普通溅射清洁和ISS应用兼容

• 连续可调谐的电压从200 V到3 kV

• 带USB或以太网接口的数字控制电子设备

AES EA5000MCA EELS ELS ELS5000 High Resolution Electron Energy Loss Spectroscopy HREELS LEED LEED系统 LK1000M LK2000 lktech LK technologies LK Technology MINICMA NGI3000 RVL2000光谱仪 低能电子衍射 低能电子衍射仪 低能电子衍射系统 俄歇电子 俄歇电子能谱AES 俄歇电子能谱仪 多探针分析系统 热解吸光谱 特高压系统 特高压表面科学系统 电子发生器 电子枪 电子源 电子碰撞实验 电子能谱仪 电子能量损失谱 电子能量损失谱仪 离子泵 离子源 精密UHV室 精密样品操纵 能量损失谱仪 表面结构与表面分析 超高真孔表面分析系统 超高真空表面分析系统 辅助泵 高分辨电子能量损失谱 高分辨电子能量损失谱仪