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CFE美国 AP Tech 冷阴极 磁控溅射阴极 真空

参考价: 面议

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2024-10-28 16:17:01
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应用领域:电子,电气,综合;
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产品简介

美国 AP Tech 冷阴极 磁控溅射阴极 真空 Applied Physics Technologies
唐:I582I984229

详细介绍

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与热离子和热场发射器不同,CFE在室温下工作。当电子响应于强电场的施加而发射时,就会发生场发射。为了实现这种高场,单晶钨被蚀刻到显微镜下锋利的尖。CFE是非常高亮度的光源,因此在需要高电流密度和可以实现高真空条件的应用中表现出色。

在APT,我们在内部种植和加工自己的单晶钨。我们的蚀刻工艺可以根据客户的要求进行定制,并受到严格控制,以确保质量和一致性。APT可以为CFE提供任何发射极-基极/抑制器配置,包括FEI/Philips、Denka、Hitachi、JEOL和自定义配置。

AP Tech APT 生产镓液态金属离子源 (Ga LMIS) CeBix® Cold Field Emitters (CFE) Ion Sources Thermionic Emitters (TE) Zirconiated Tungsten (ZrOW) Thermal Field Emitters (TFE) 六硼化铈 (CeBix®) 的 Sl.均 LaB6 六硼化镧 (LaB6) 冷场发射器 (CFE) 冷阴极 提高空间分辨率 热离子发射器 (TE) 热离子发射阴极 电子源 离子源 离子源阴极 稳定发射和长寿命的电子束应用 美国 AP TECH 肖特基源 适用于需要高亮度 锆化钨(ZrOW) 锆钨 (ZrOW) 热场发射器 (TFE) 阴极

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