SUSS 品牌
经销商厂商性质
深圳市所在地
1.产品概述:
MA12是专为对准和曝光300毫米以下方形衬底和晶圆而设计的,适合于工业研究和生产。凭借灵活处理和过程控制解决方案,本设备主要用于先进封装,包括3D圆晶级芯片尺寸封装, 以及开发和生产敏感元件,如MEMS。。
2.产品优点:
一个涵盖微观到纳米压印的工具
能够可靠地处理弯曲晶圆片和敏感材料
高的光均匀性
强大的工艺控制
增强的SUSS调平系统
占地面积小,增强了人机工程学特性
3.产品工艺:
顶面对准:在光刻工艺中,只需对准器件晶圆同侧的结构(例如再布线层、微凸点 等),用顶部对准功能将掩模位置标记对准晶圆位置标记。 根据衬底的特性,这可以用存储的晶圆位置数据或者用两个现场照片 、SUSS MicroTec 开发的DirectAlign™ 直接对准技术实现。
背面对准:应用微电子机械系统(MEMS)、圆晶级封装和三维集成的工艺,例如在接板上制造垂直通孔 (TSV),需要与正面结构对准的晶圆背面结构。 此时常使用光学背面对准。 集成摄像机系统采集掩模结构和晶片背面结构并将它们相互对准。 由于晶圆在装载掩模靶后被覆盖,必须预先确定并存储其位置。 这对整个对准系统提出了特殊的要求。
提高对准精度:当对套刻精度有较高要求时,大大提升标准系统的自动对准功能。DirectAlign®,SÜSS MicroTecs 图像识别软件附加功能,放弃图片存储系统中的结构图文件,取而代之的是访问实况图。结构识别基于工业标准 PatMax 且取得了优异成绩。因此,在 SUSS 掩模对准器上用 Direct Align® 进行顶面对准时对准精度可达到 0.5 微米。
晶圆和掩模辅助装片:操作者辅助的系统,与人工晶圆把持的优势相结合,保持了高度的工艺可控与可靠性。