部件镀膜设备

Batch Type部件镀膜设备

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-09-05 15:54:36
194
产品属性
关闭
深圳市矢量科学仪器有限公司

深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

部件镀膜设备实现高大量生产率的高真空基础In-line Sputter

详细介绍

高真空基础In-line Sputter设备,其核心优势如下:
高生产率:
该设备的一个完整生产周期仅需220~360秒,具体时间可能因产品而异。
工艺优化与品质提升:
我们对Sputter工艺进行了全面优化,从而显著提升了产品的品质。
引入了Plasma Clean Sputter Plasma Cleaning工艺,有效增强了产品表面的附着力,进一步提升了产品品质。
精密仪器与设备耐用性:
设备采用了精密的仪器安装工艺,确保了设备的稳定运行。
设备具有出色的耐用性,维护周期长,且维护费用低廉。
自主研发材料:
我们采用了自主研发的材料,相比其他公司的材料,我们的材料价格更为低廉。
使用自主研发的材料,我们成功提升了产品的品质,同时提高了生产效率,并优化了Arching等控制功能。
综上所述,这款高真空基础In-line Sputter设备以其高生产率、优化的工艺、精密的仪器安装、出色的设备耐用性、低廉的维护费用以及自主研发的高品质材料,为相关行业提供了显著的优势和价值。

Chamber & Door∮800 * 1500, 2 Door, STS(SUS)304
Pumping System* RP + MBP + D/P
* Cryo cooled polycold unit
Cooling Devices* Cooling Traps for Pumping Unit
* Cooling Chiller for Cathode
Power Supply* DC Power (Sn, AL, NI, SUS, Sputter)
* Cooling Chiller for Cathode
Control UnitPLC, Touch Screen
Cycle Time4.5~6.5min (根据产品可能有所不同)



上一篇:CVD气相沉积薄膜生长过程 下一篇:PCVD工艺的具体流程
热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :